分享到:

掩模制造业:应对成本攀升挑战

随着芯片生产采用更先进的工艺,掩模的成本也在大幅提升。在这次SemiconWest展会上,杜邦光掩模公司(DuPont  (本文共2页) 阅读全文>>

《传感器与微系统》2019年07期
传感器与微系统

基于直写技术的微纳掩模制作技术研究进展

微纳掩模制作是进行刻蚀、沉积和改性等微纳加工工艺之前的主要工艺,是微纳米加工过程中的关键步骤和基础。高质量、柔性、低成本、高效的掩模制作对微/纳机电系统(MEMS/NEMS)、微米纳米技术、微/纳电...  (本文共5页) 阅读全文>>

《电子与封装》2017年08期
电子与封装

基于RFID的数字化掩模制造

介绍了中微掩模智能化生产系统,提出了利用RFID技术实现对掩模版制造流程的智能化管理。利用智...  (本文共5页) 阅读全文>>

《电子工业专用设备》2012年05期
电子工业专用设备

相移掩模清洗结晶控制

在高端集成电路制造方面,普通二元掩模已经不能满足晶圆使用要求。目前,高端(线宽0.18μm以下)集成电路生产主要采用相移掩模。相移掩模(Phase Shift Mask)制作过程...  (本文共3页) 阅读全文>>

《电子工业专用设备》2006年04期
电子工业专用设备

凸版光掩模公司

原杜邦光掩模公司)是凸版印刷株式会社的光掩 模集团的一部分。凸版印刷株式会社是一个多方位 经营的全球公司,...  (本文共1页) 阅读全文>>

《电子与封装》2006年07期
电子与封装

光掩模现状与展望

0.09μm工艺用掩模在国外进入批量生产,0.065μm对应掩模成为研发重点,新一代电子束投影曝光技术...  (本文共4页) 阅读全文>>