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ITO靶材企业应埋头向下精细创新

近年来,中国大陆平板显示产业呈快速发展势头,而随着京东方北京八代线的投产,中国大陆计划将面板进口关税上  (本文共2页) 阅读全文>>

《金属功能材料》2017年05期
金属功能材料

磁控溅射钛靶材的发展概述

详细介绍了磁控溅射Ti靶材的种类、应用及制备情况,...  (本文共6页) 阅读全文>>

《真空科学与技术》1988年05期
真空科学与技术

溅射镀成膜速率的研究

真空溅射镀与蒸发镀相比,膜层较牢固、致密,但成膜速率较低。如何提高成膜速率,已成为改进溅射镀工艺的主要方向。由于溅射镀的机理比...  (本文共13页) 阅读全文>>

《上海钢研》1989年03期
上海钢研

新型溅射靶材的研制和应用

近十多年来,随着大规模集成电路技术和多种表面硬性技术的迅速发展,对各种高纯度、高性能的新型溅射靶材的需求越来越迫切,...  (本文共1页) 阅读全文>>

《上海金属.有色分册》1989年06期
上海金属.有色分册

上海有色所溅射靶研制有了新发展

上海有色金属研究所第四研究室,利用自身科研优势,从84年至今,在溅射靶研制方面,从单一品种...  (本文共1页) 阅读全文>>

北京科技大学
北京科技大学

~(10)B富集的二硼化锆靶材制备

二硼化锆(ZrB2)作为重要的超高温陶瓷材料,被广泛应用于航空航天、电极材料和耐火材料等领域,其中AP1000反应堆用一体化ZrB2可燃毒物是其应用的最新进展。有关ZrB2粉体制备和ZrB2陶瓷致密化一直是研究热点。本文针对AP1000反应堆用一体化ZrB2可燃毒物涂层对10B富集的ZrB2靶材的需求,进行10B富集的ZrB2粉体及靶材制备研究。制备ZrB2粉体的方法有很多,包括碳热还原、硼热还原、高温自蔓延合成、溶胶-凝胶法等。碳热还原法原料来源简单,且易于产业化,对于合成10B富集的ZrB2粉体来说具有显著的成本优势。然而,碳热还原法合成的ZrB2粉,由于颗粒尺寸较大且易呈条棒状,加之ZrB2自身特性,难以在不存在烧结助剂的情况下实现高度致密化。因此,控制碳热还原反应过程中ZrB2粉体粒子的生长和形貌,进而在不添加烧结助剂的条件下实现靶材的深度致密化是一个重要课题。本文从原料分析与处理出发,采用碳热还原法合成ZrB2粉体,通...  (本文共129页) 本文目录 | 阅读全文>>