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面向高成品率设计的EDA技术

成品率下滑已成为当今纳米集成电路设计中面临的最大挑战之一。如何在研发高性能IC同时保证较高的成品率已成为  (本文共4页) 阅读全文>>

《电子学报》1990年20期
电子学报

VLSI成品率预测与仿真

本文建立IC光刻工艺相关缺陷计算模型和基于MonteCarlo统计成品率计算模型.阐述了集成电...  (本文共4页) 阅读全文>>

《统计与咨询》1994年02期
统计与咨询

小议药品成品率的计算方法

成品率是反映工业产品符合主要技术参数质量标准。笔者在H药厂调查制剂产品合格率时竟遇到A产品成品率为104.83%这种情况,而且在厂际之间交流资料及上报国家医药局正式报表中也经常出现...  (本文共1页) 阅读全文>>

大连理工大学
大连理工大学

集成电路设计中针对随机缺陷的成品率研究

半导体制造是一个复杂的过程,尤其进入纳米技术节点后,工艺步骤越来越多,其中每一步工艺都有可能引入随机缺陷,造成电路故障,引起成品率问题。集成电路的成品率是决定半导体产业经济利润的重要因素。随着集成电路制造工艺进入到纳米时代,由随机缺陷引起的成品率问题越来越严重,即使在成熟的制造环境下,成品率也不可能达到100%。这就要求在设计阶段能够准确预测成品率,给成品率提升指明方向,缩短生产周期、降低生产成本,从而提升利润。本文首先介绍了影响芯片成品率的因素及其可能引起的故障类型,并概述了随机缺陷在芯片中的空间分布及粒径分布等特性;然后介绍目前广泛使用的成品率预测模型以及它们所采用的分布函数,分析它们的局限性和不足,同时结合随机缺陷的分布特征提出一个改进的模型。通过Matlab仿真,该模型相比于目前主流的模型确实具有更高的灵活性和准确度。同时,本文通过布图规划、时钟树综合以及布局布线等过程,得到一个版图数据。在此版图数据基础上,进行关键面积...  (本文共60页) 本文目录 | 阅读全文>>

《电路与系统学报》2013年02期
电路与系统学报

一种快速计算和优化关键面积提高成品率的方法

成品率驱动设计(DFY)已经成为集成电路设计的必然趋势。基于随机缺陷的DFY设计的主要目标是通过优化版图的关键面积来提高成品率。针对版图局部...  (本文共5页) 阅读全文>>

《集成电路应用》2007年06期
集成电路应用

都是成品率惹的祸

随着半导体技术不断向着更小的工艺节点推进,成品率损失(yield loss...  (本文共1页) 阅读全文>>