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高导热低膨胀复合材料及其制备工艺

一种高导热低膨胀复合材料及其制备工艺,以高导热特性铜Cu与负膨胀特性钨酸锆ZrW↓[2]O↓[8]为组元复合材料,采用化学镀工艺,在ZrW↓[2]O↓[8]粉体表面...  (本文共1页) 阅读全文>>

《景德镇陶瓷学院学报》1988年01期
景德镇陶瓷学院学报

低膨胀釉的研究

_前吉 、I刁诩p 近年来,国内外在低膨胀陶瓷研制方面做了大量的工作,有的已在工业生产中广泛应用。但是,根据现有的研究成果来看,适应于低膨胀陶瓷(Q=。.4~2.5x10一‘℃一‘)坯体的低膨胀釉的研究无论在机理上还是在工艺上都进展级慢。为了尽快使低膨胀釉得到开发应用,本研究基于已有的研究成果〔’·2…二,在Li,O一AI:O一510:系的基础上,从工艺入手,确立了新的配方组成,并探讨了釉的配方组成、显徽结构和工艺制度与低膨胀特性之间的关系。 二、试验(一)试脸用旅料l。苏州高岭萍乡石英为天然原料,烧高岭即将苏州高岭在10。。℃灼烧而得。.19.8年4月3日收皿弓来摘,1988年9月ID日收,弓修改鹅,.抽一悦学院学报1988年10月 2。权玻瑞用工业碳酸握(纯度92%Li:O。)和石英粉按Li,O·2510:混合配料,在135。℃下烧制而成,粉磨至过40目筛备用。 3.其它外加改性荆如BaCO:、MgO、Ca:(PO‘):、Z...  (本文共13页) 阅读全文>>

《中国陶瓷》1989年05期
中国陶瓷

低膨胀微晶陶瓷板在绍兴通过省级技术鉴定

为了适应市场对低膨胀材料的要求,由中国科学院上海硅酸盐研究所研制的向绍兴瓷厂技术转让,由双方共同完成扩大试验并使之商品化的“低膨胀微晶陶瓷板”于九月十二日在绍兴通过了省级技术鉴定。一 低膨胀微晶陶瓷是基于其主晶相一日锉辉石固溶体有很低的热膨胀这一特征。因此生产的面板具有很低的热膨胀系数(6 .4~12.9 x 10一’/ac)、优异的耐热急变性、良好的电绝缘性和介电性、较好的机械强度(抗折强度800k盯/c mZ),是一种新型的陶瓷材...  (本文共1页) 阅读全文>>

《陶瓷研究》1989年04期
陶瓷研究

低膨胀微晶陶瓷板在绍兴通过省级技术鉴定

〔本刊讯〕由中国科学院上海硅酸盐研究所研制的向绍兴瓷厂技术转让并由双方共同完成扩大试验并使之商品化的“低膨胀微品陶瓷板”于九月十二口在绍兴通过了省级技术鉴定。 低膨胀微品陶瓷是华于其主品相一一日锉辉石固溶体有很低的热膨胀这一特征。因此生产的而板具有很低的热膨胀系数(6。4一12.9x10一7/℃)优异的耐热急变性、良好的电绝缘性和介心性,较好的机械强度(抗折 .12.强度sookg/cm“...  (本文共1页) 阅读全文>>

《陶瓷》1983年02期
陶瓷

原子吸收光谱法测定低膨胀釉中的锂

启斤心旨日马口 随着陶瓷工业的不断发展,该法应用也愈加广泛,近年来低膨胀耐热陶瓷发展很快,从而推动了低膨胀釉的研究。当前,低膨胀釉多采用含铿系列,因而,要求有与之相适应的准确定量方法。 过去测定锉常用火焰光度法等。但该法测定时,钾、钙等元素有干扰,必须选择适宜的化学试剂来消除干扰“’,该法灵敏度差,操作条件严格,尤其是铿的含量较低时就难以达到要求‘2’,这样给测定带来一定的困难。近来,原子吸收光诸法发展很快,地质部门曾报导了采用原子吸收光谱法测定建材技术一一陶锐矿石中的铿及各种类型水样中的铿‘“’‘“’。但此法用于化学组成比较复杂的陶瓷釉料中锉的测定报导很少。本文对测定低膨胀釉中铿的原子吸收光谱法进行了试验,认为该法具有简单,灵敏度高,快速,选择性好,釉料中其它元素干扰少,不经分离或掩蔽可直接测定等优点。本方法的灵敏度范围,。.02一0.04微克/毫升。随着原子吸收光谱法的发展、普及,这一分析方法将得到广泛的应用和更加完善。 二...  (本文共5页) 阅读全文>>

权威出处: 《陶瓷》1983年02期
《陶瓷》1976年04期
陶瓷

低膨胀釉

本发明系关于用于低膨胀瓷有效的低膨胀釉。 一属化铿瓷、茧青石瓷以及其它低膨胀瓷,由于它们的耐热冲击性能优越,是一种有用的耐热材料。但是,因为还没能得到适合瓷休小的热膨胀系数的低膨胀釉,施普通的釉,釉面会存在显著的凹凸不平,目缺乏光泽,甚至产生熔洞,有损外形;而月.只能制造强度小的瓷件。这是因为:普通的玻璃质釉作为低膨胀釉时,硅酸的含量要多,烧成温度就需要在1500“C以上,超过了瓷器的变形温度(1300~1 400“C),在烧成过程中瓷件就会变形。因此,市场上出售的制品用不施釉,或施釉的瓷件只限于对外形、强度不作严格要求的工业用陶瓷及一般锅类。为有效的利用低膨胀姿固有的耐热冲击性能,在特殊绝缘子、反应塔、热令换器或直接在于火上烧用的高级餐具等方面朴不能广泛施用一般的釉。 由于从来没有合适的釉,使低膨胀瓷的用途受到限制。本发明的目的就是要研制出可有效用于低膨胀瓷的低瞬胀釉,烧成后,其化学组成(重一鼠%)为:LIO:1.5~了%,N...  (本文共3页) 阅读全文>>

权威出处: 《陶瓷》1976年04期