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PtCoNi合金薄膜的结构、磁性和磁光特性研究

信息社会的飞速发展迫切需要高密度记录材料的出现。尽管Co_(1-x)Pt_x合金薄膜由于具有容易制备、化学性能稳定、较高的各向异性(Ku=0.4~2MJ/m~3)和短波长下有更大的磁光信号等特点而一度引起了材料和物理学界的关注,但是其较高的居里温度严重限制了这类材料的应用。为了探索一种既具有较低的居里温度,又具有较高的磁和磁光特性的材料,我们采用工艺上比较便捷的复合靶磁共溅射方法,在 Pt_3Co合金薄膜中添加 Ni,通过工艺条件的调节,首次成功制备出性能优良的PtCoNi合金薄膜材料。Ni的添加采取两种方法.1),通过在Pt_3Co合金靶上加贴小块Ni片,来调节Ni的成分,以期获得低Tc、高垂直各向异性和蓝波下高克尔转角的(Pt_3Co)_(1-x)Ni_x合金膜,结果发现,Ni的适度引入(x=0 43)不仅能降低居里温度(Tc=242℃),而且能获得较高的垂直各向异性(Ku为0 5MJ/m~3、矫顽力为280 KA/m,剩磁  (本文共75页) 本文目录 | 阅读全文>>

《物理学报》1999年S1期
物理学报

(Pt_3Co)_(1-x)Ni_x合金薄膜的结构、磁性和磁光特性研究

1 引言Pt/Co多层膜和Pt3Co合金薄膜不但具有高垂直磁各向异性、大矫顽力、强抗腐蚀能力,更主要的是其在蓝波波段有较高的Kerr转角,因而被视为最有希望替代TbFeCo材料的第二代高密度磁光记录材料之一[1].然而,文献报道[2]的Pt3Co合金薄膜的居里温度普遍高于300℃,Pt/Co多层膜的居里温度则高达400℃.这不仅需要较高的写入功率而且会加剧写入过程中的表面或层间热扩散,这是目前制约这类材料实用化的原因之一.关于Pt/Co多层膜掺杂方面的工作已有报道.1993年,Krishnan等[3]首先通过在Pt/Ni多层膜Ni层中掺Co的方法获得了居里温度为200℃的多层膜磁光材料,尽管矫顽力只有112kA/m.1998年,Wang等[4]则采用在Pt层中掺Ni的方法进行了研究,结果发现Ni增加引起了TC的上升.PtCo合金膜掺杂方面,Kim等利用Fe和Mn对Pt3Co进行了掺杂研究,但主要侧重于温度、磁场对材料磁特性影响...  (本文共7页) 阅读全文>>

《计算物理》1984年01期
计算物理

Monte Carlo方法应用于二元合金薄膜微区成份及厚度的同时测定

用电子探针或x射线能谱定量分析薄膜微区成分、厚度的工作对于各种薄膜材料、器件的物理化学性质和工艺性能的研究有重要意义。由于存在电子对薄膜的透射、衬底对透射电子的背散射以及薄膜对X射线的吸收(称为原子序数、吸收与透射影响,即Z、A、P效应),致使计算薄膜中的x射线强度极不容易。因此,用通常4的ZAP方法不能克服薄膜定量分析的困难〔‘〕〔“〕。作者在文献〔3,4〕中定义并应用Monte Carlo方法计算了孤立薄膜和同一材料原标样中同样厚度层的x射线分布函数,然后提出一个背散射电子能量因子关系式来确定衬底对薄膜中x射线强度的影响,以校正计算有衬底薄膜分布函数功z(Pz)中的Z、A、P效应。实际测定表明,此方法分析的准确度比文献〔1,幻的结果有所提高,且计算比较简单。上述工作较好地解决了已知薄膜成分测定厚度的难题,但是实际工作中经常会遇到薄膜成分、厚度均未知,需要同时测定的定量分析工作。 基于前文〔3下4〕的工作,笔者用逐步逼近Mon...  (本文共4页) 阅读全文>>

《真空电子技术》2009年03期
真空电子技术

日开发调光镜玻璃用镁镍系合金薄膜

日本产业综合技术研究所的一个环境应答功能薄膜研究组开发了一种具有卓越光学特性的调光镜薄膜材料。调光镜材料是一种能够把光学性质自由地控制成透明状态与镜状态及中间状态的新薄膜材料,这次开发的是可见光透过率50%以上的镁镍系合金薄膜材料。把用这种材料做的调光玻璃(能够自由地调节从外部射入的光)作为建筑物的窗户玻璃使用,可有效地遮蔽从外部射入的太阳光,因此能够减少建筑物内部的冷气负荷和照明负荷。若把它用作汽车的窗玻璃,在夏天停车时可从透明状态变为镜状态,因此能够大幅度地抑制室内的温度上升,从而能够节约冷气使用的汽油。这次开发的调光镜薄膜与以往报道过的调光材料相比,不仅具有卓越的光学特性...  (本文共1页) 阅读全文>>

《金刚石与磨料磨具工程》2007年05期
金刚石与磨料磨具工程

合金薄膜铜衬底抛光质量对薄膜表面结构的影响

0引言研究表明非晶态合金作为新的高活性催化剂,其活性高于相应的晶态合金,有特殊的选择性,且成本较低,不会造成污染,是一种具有广阔应用前景的新型绿色催化材料[1]。另外,它具有一般晶态合金所没有的特性,如较高的电阻率、半导及超导特性、良好的抗辐射性能及抗腐蚀能力,作为防护镀层有着十分广阔的应用前景。因此合金薄膜技术也成为目前半导体产业常用的技术热门和探讨的重点,目的为通过这项技术将微量的金属材料以生长方式形成在所需的表面上,应用在电子激发、电导性、触媒活性或是抗蚀性、抗磨耗性等方面。非晶态合金薄膜的生长,是在铜衬底上用电化学沉积的方法镀一层非常薄的合金薄膜(厚度不超过300 nm),采用恒电流沉积,设定一个不变的电流值,涂绝缘胶固定沉积面积,这样理想中的电流密度是恒定的,可以均匀地沉积。早在1950年,Brenner就用电沉积法得到了非晶态镍磷合金。近年来,Pd合金复合膜由于具有高的氢渗透速率、高度透氢选择性以及明显的成本优势而倍...  (本文共4页) 阅读全文>>

《材料导报》2005年07期
材料导报

镍铬合金薄膜的研究进展

0引言 薄膜电阻应变计是日前世界上最常用的应力分析用敏感元件,它主要利用膜材料在受到外界应力时其电阻值会发生相应变化的特征,通过变换电路将电阻值变化转换为电压变化输出,以实现对被测压力的准确测量。作为应变计薄膜材料应该具有以下综合性能:高电阻率、低电阻温度系数、高应变灵敏系数、良好的热稳定性。通常作为电阻应变计膜的材料有:金属、合金、平导体材料及金属氧化物等,它们的主要特点有详细的介绍L‘一狱。镍铬合金膜具有高的电阻率,低的电阻温度系数,较高的灵敏系数几对温度依赖小等特点,因此常用于制备薄膜电阻应变计。尽管镍铬膜具有如此多的优异特性,但在实际应用中还存在诸多问题:(”膜与基体的结合力问题。研究发现当薄膜的厚度较大时,薄膜会由于内应力过大而与基体发生脱落,严重影响薄膜应变计的应用;(2)镍铬薄膜具有较大的电阻温度系数,不宜于在温度变化剧烈的环境下测量应变.如何减小薄膜的电阻温度系数,拓展测量的温度范围一直是人们研究的重要课题;(3...  (本文共4页) 阅读全文>>

《冶金标准化与质量》2005年02期
冶金标准化与质量

使用在线基本参数法对多层合金薄膜样品的成分和膜厚同时定量分析已成为现实

在半导体、光·磁盘、电镀钢板、蒸镀膜等领域中 ,多层薄膜的成分和膜厚的同时定量分析成为重要的课题。在X荧光光谱分析中 ,为分析多层合金薄膜的成分和膜厚 ,需要标准样品和建立工作曲线等有许多繁琐的问题。但是 ,如果使用理论计算荧光X射线强度的基本参数法 (FP法 ) ,则可以使用纯金属或简单成分的块状 (无限厚 )样品作为标准样品 ,方便地进行多层合金薄膜的成分和膜厚的同时分析。如果有与未知样品具有相同成分且已知其含量和膜厚的标准样品 ,则可以进行更高精度的分析。下面介绍使用配备于岛津顺序扫描X射线荧光光谱仪的薄膜FP法 ,分析Al蒸镀膜和电镀钢板的例子。有关用FP法进行X射线荧光光谱分析的内容 ,请参阅应用资料No .12 2、139和 15 1。■Al蒸镀膜的分析下面介绍作为单层膜 ,在聚酯膜上蒸镀Al的膜厚测定。图 1、图 2分别表示Al蒸镀膜膜厚为 10 0A和 6 0 0A的Al的定性分析结果。使用Alkα线的荧光X射线...  (本文共2页) 阅读全文>>