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用光散射方法研究PS/SAN共混体系在静态和动态剪切场中的相行为

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·四川大学

一般而言,聚合物共混物是热力学不相容体系。改善聚合物共混物相容性的方法大致归为两类:利用“分子间特殊相互作用”以及采用“分子内链段排斥性相互作用”。后者要求共混物中含有无规共聚物,由于无规共聚物易于合成、制备,且可以通过调节共聚组成改变其与其它组分的相容性,因此,含有无规共聚物的共混体系的相容性问题已经成为聚合物共混物相容性研究的前沿之一,不仅具有重要的理论意义,而且有广阔的应用前景。同时,聚合物共混物只有经加工才能成为最终产品,在加工过程中会受到剪切的作用。所以研究剪切场中聚合物共混物的相态结构变化规律,对更准确地掌握剪切场中体系的形态变化规律,获得所需性能的材料具有重要意义。在以往对剪切场中聚合物共混物相行为的研究中,主要以均聚物构成的共混物为主,而含无规共聚物的共混体系在剪切场中的相行为研究却较少。本论文选择了含无规共聚物苯乙烯-丙烯腈共聚物(SAN)的聚苯乙烯/苯乙烯-丙烯腈共聚物(PS/SAN)共混体系为研究对象(这是  (本文共157页) 本文目录 | 阅读全文>>