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Ni-AlN太阳能选择性吸收涂层中频磁控溅射技术研究

太阳能选择性吸收涂层制备技术是太阳能热利用的关键技术之一,目前存在高温稳定性差、工艺稳定差、制备工艺复杂等问题。将Ni-AlN材料体系和中频反应磁控溅射技术结合起来有可能开发出光学性能和高温性能优异的选择性吸收涂层的低成本工业化生产技术。本论文对中频反应磁控溅射工艺参数对TiN薄膜结构及性能的影响进行了研究,结果表明氮气流量和靶功率对薄膜结构及性能的影响较大。对中频反应磁控溅射工艺参数对Al靶放电特性和制备的AlN薄膜显微结构的影响进行了研究,结果表明:氮气流量、氩气流量、靶功率和靶面磁场对Al靶的放电特性有显著影响;Al靶电压随着氮气流量的增加而减小,当氮气流量超过临界值后,Al靶电压随着氮气流量增加而下降的速度加快;减小氩气流量和增加靶电流使Al靶开始发生严重靶中毒所对应的临界氮气流量有所增加。随着氮气流量的增大,沉积的AlN薄膜含氮量不断增加,其相组成由以单质铝相为主逐渐转变为以AlN相为主,薄膜的致密性有明显改善;增大氩  (本文共124页) 本文目录 | 阅读全文>>

《无机材料学报》1988年02期
无机材料学报

反应磁控溅射离子镀氮化钛薄膜质量与工艺参数的关系

本文总结了影响反应磁控溅射离子镀氮化钛膜层质量的主要工艺参数。测得了靶极电压与氮气流量、靶极电流与氮气流量、溅射室内压...  (本文共6页) 阅读全文>>

《真空》2003年01期
真空

中频双靶反应磁控溅射制备TiO_2膜的一些探索

具有高折射率的 Ti O2 膜在反射型液晶显示器的关键部件高反射率背板膜系的制备中起重要作用。本文使用国内首家在线中频双靶反应磁控溅射设备进行了制备 Ti O2 膜...  (本文共4页) 阅读全文>>

权威出处: 《真空》2003年01期
《稀有金属材料与工程》2011年S1期
稀有金属材料与工程

射频反应磁控溅射法制备ZnO:Al透明导电薄膜的光电性能

室温下采用射频(RF)反应磁控溅射技术在玻璃衬底上沉积具有(002)择优取向的透明导电Al掺杂ZnO(AZO)薄膜。XRD结果表明,制备的AZO薄膜为...  (本文共4页) 阅读全文>>

哈尔滨工业大学
哈尔滨工业大学

中频反应磁控溅射制备二氧化硅薄膜的工艺研究

二氧化硅薄膜具有良好的绝缘性、稳定性和机械特性,同时又是一种实用的低折射率材料,可以作为绝缘层、保护膜、钝化膜或光学薄膜,广泛应用于半导体、微波、光电子以及光学器件等领域。目前制备二氧化硅薄膜的方法有脉冲激光沉积法、等离子体增强化学气相沉积法、热氧化法等,以上几种镀膜方法应用在光学薄膜领域都有各种缺点,难以克服。中频反应磁控溅射是一种目前很先进的物理沉积方法。其在大面积,高反射率光学薄膜领域有极大的优势,其制备的大面积高反射膜是最有可能运用于大型光学镀膜技术,但是目前中频反应磁控溅射制备二氧化硅薄膜的工艺存在许多问题。薄膜反射率没有达到工程性能要求,还没有展开其薄膜的微纳力学性能方面的研究。本论文利用中频反应磁控溅射装备以及大量检测设备,通过实验进一步优化了高反射率二氧化硅薄膜的工艺。验证了中频反应磁控溅射制备二氧化硅薄膜的均匀性,并根据实验以及现实情况制定了中频反应磁控溅射制备二氧化硅薄膜的工艺参数。在微纳力学性能的研究方面,...  (本文共58页) 本文目录 | 阅读全文>>

《福建师范大学学报(自然科学版)》2004年04期
福建师范大学学报(自然科学版)

反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜

利用低频反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜.薄膜的微结构、表面形貌和光学性质等分别采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和紫外可见近红外分光光度计等...  (本文共4页) 阅读全文>>