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电子束曝光系统鞍形线圈的偏转象差与绕线分布

本文对扫描电子束曝光系统(SEBLS)透镜后偏转鞍形线圈的三级偏转像差对电子光柱系统的重要参数:偏转器与透镜之间的距离Z_o,工作距离Z_s以及对偏转器几何形状参数L/R的关系进行了较系统的分析;对绕线分布的影响(包括绕线中心位置、绕线  (本文共6页) 阅读全文>>

《山东工业大学学报》1989年02期
山东工业大学学报

电子束曝光系统扫描场的畸变校正

根据平面区域变换的原理,导出电子束曝...  (本文共8页) 阅读全文>>

《微电子学与计算机》1982年04期
微电子学与计算机

目前国外已投入生产中使用和市售的电子束曝光系统

系统名称制造厂家。.}加速1习丁幽l仁bl」二州七命士l叶山止七ZJ‘舀碗!,二亡月轰、_卜l--勺、产春馨淞酬镬黔}贵洲(夏薇氨匡...  (本文共1页) 阅读全文>>

《微细加工技术》1984年03期
微细加工技术

电子束曝光系统中的物镜像差和最佳电子束电流

本文讨论微米及亚微米级电子束曝光系统中各种透镜像差对合成透镜弥散斑的影响,分析了最佳电子束电流与末级透镜束会聚半角的关系。计算结果表明,计算模...  (本文共6页) 阅读全文>>

中国科学院研究生院(电工研究所)
中国科学院研究生院(电工研究所)

纳米级电子束曝光系统用图形发生器技术研究

纳米级电子束曝光系统是微纳加工的重要设备,图形发生器是电子束曝光系统的核心部件,包括硬件和软件两部分。硬件设计吸纳了近年来数字信号处理的最新成果,利用高性能数字信号处理器(DSP)将要曝光的单元图形拆分成线条和点,然后通过优化设计的数模转换电路,将数字量转化成高精度的模拟量,驱动扫描电镜的偏转器,实现电子束的扫描。为此目的特构建了x方向和y方向两组数模转换电路,每组包括1个16位主数模和3个16位乘法数模。通过图形发生器可以对标准样片进行图像采集,进行扫描场的线性畸变校正,包括扫描场增益、旋转和位移校正。另外,图形发生器还可以控制束闸的通断。配合精密定位工件台和激光干涉仪,可以实现曝光场的拼接,拼接精度优于0. 2μm。通过检测芯片的标记,还可以实现曝光图形的套刻。利用配套软件既可以新建曝光图形,也可以导入通用格式文件,例如CIF和GDSII文件,进行曝光参数设置、图形修正、图形分割、邻近效应修正等工作,然后将曝光图形数据转换成...  (本文共119页) 本文目录 | 阅读全文>>

《电子工业专用设备》2005年02期
电子工业专用设备

高斯电子束曝光系统

电子束光刻技术是纳米级加工技术的主要手段,在纳米器件加工、掩模制造、新器件新结构加工中扮演举足轻重的角色。虽然现在最先进的电子束聚焦...  (本文共4页) 阅读全文>>