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高温超导Bi_2Sr_(1.6)La_(0.6)CuO_6外延薄膜生长模式的AFM研究

利用AFM对在(100)和与(100)有6°切偏角的SrTiO3基片上用射频溅射方法制备的高温超导Bi2Sr1.6La0.4CuO6+δ(Bi2201)薄膜的生长模式进行了系统地研究。对应以上两类不同切割的基片,实验  (本文共3;页) 阅读全文>>

北京邮电大学
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Ga_2O_3外延薄膜生长与电场调控光电性能研究

氧化镓具备很多独特、优良的物理性质,加之氧化镓单晶衬底、外延薄膜、纳米材料制备技术的日趋成熟,决定着其在日盲光电探测器、功率晶体管、紫外-透明导电电极、发光二级管、阻变存储器、气敏传感器等领域具有广泛的应用前景。高质量外延薄膜生长技术是Ga203材料应用于光电子器件的关键,本论文着眼于氧化镓带隙宽、击穿电场强度大的优势,基于器件设计与制备的需要探索了氧化镓外延薄膜的可控生长技术,并研究了生长获得的外延薄膜的光学、日盲光电、电学性能以及其在日盲探测器、光电晶体管、场效应晶体管方面的应用。主要的研究成果如下:(1)通过调节生长温度和后位退火处理,实现了对β-Ga203薄膜结晶质量、表面形貌和光学带隙的调控;并制备获得了基于β-Ga203薄膜的日盲探测器。高的晶体缺陷和氧空位密度使得薄膜具有更高的响应度,同时也使得薄膜的光谱选择性变差、响应速度变慢;大尺寸的晶粒能极大的减小晶界散射,使得薄膜具有高的光电流增益和较快的响应速度。(2)通...  (本文共160页) 本文目录 | 阅读全文>>