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离子束溅射沉积作用下聚四氟乙烯膜的制备和结构分析

本文首先利用离子束溅射聚四氟乙烯靶材的方法制备了薄膜,进而研究了其结构。由XPS的结果可知,所得薄膜主要由CF2结构组成;由FTIR的结果可  (本文共3页) 阅读全文>>

《真空与低温》1992年03期
真空与低温

双离子束溅射沉积二氧化硅薄膜

利用双离子束溅射沉积技术,在锗、硅、K9玻璃、不锈钢基底上沉积...  (本文共3页) 阅读全文>>

《光学学报》2006年06期
光学学报

离子束溅射沉积不同厚度铜膜的光学常数研究

利用Lambda-900分光光度计对离子束溅射沉积不同厚度Cu膜测定的反射率和透射率,运用哈德雷方程,并考虑基片后表面的影响,对离子束溅射沉积的Cu膜光学常数进行了计算。结果表...  (本文共5页) 阅读全文>>

《大连理工大学学报》1970年20期
大连理工大学学报

辅以动态氮离子轰击的氩离子束溅射沉积PTFE高分子膜

用辅以动态氮离子轰击的氩离子束溅射沉积方法,在304不锈钢基材上沉积聚四氟乙烯薄膜....  (本文共4页) 阅读全文>>

《功能材料》1990年40期
功能材料

离子束溅射沉积羟基磷灰石涂层钛种植体材料的制备和表征

采用Ar+离子束溅射沉积技术在钛基体上沉积羟基磷灰石薄膜涂层,Ar+离子束的能量分别为0.9keV、1.2keV和1.5keV。利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和红外光谱(FTIR)等检测方法,对制备的羟基磷...  (本文共3页) 阅读全文>>

《光学仪器》2004年02期
光学仪器

自动控制离子束溅射沉积光学薄膜系统设计

利用射频离子源RF—2001控制器USERINTERFACE接口具有遥控开关控制的功能,采用继电器控制输出及开关量隔离输入卡DAC—732...  (本文共4页) 阅读全文>>