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600线/mm大闪耀角激光光栅研制

文章介绍了用于染料激光器的600线/mm大闪耀角激光光栅的制造技术,分析了偏振效应,计算了伍德(W  (本文共6页) 阅读全文>>

苏州大学
苏州大学

小闪耀角凸面闪耀光栅的研究与制备

本文围绕小闪耀角凸面闪耀光栅的制作方法,对离子束束散角和涂层修整槽形展开了理论和实验研究,主要包含以下几方面的内容:首先介绍了凸面闪耀光栅的意义和国内外凸面光栅的研究进展,综合叙述了离子束刻蚀技术和Kaufman离子源系统的工作原理。深入研究了光刻胶、K9玻璃和石英三种光学材料的刻蚀特性,以氩气为工作气体,得到了三种材料刻蚀速率与入射角度的拟合方程,为离子束束散角的研究提供了基础。详细介绍了离子束束散角的计算以及束散角对刻蚀闪耀角的影响。提出了闪耀光栅闪耀角达到4°以后很难进一步减小可能是受离子束束散角影响的设想,并进行了理论分析和实验验证。通过遮挡刻蚀改良离子源准直性,在平面基底和凸面基底上制得了闪耀角2.8°和3.4°的闪耀光栅,在原有工艺的基础上,将闪耀角降低。通过对已有闪耀角4°左右的闪耀光栅进行旋转涂布和提拉涂布光刻胶,进一步降低闪耀角。验证了不同旋涂、提拉速度和光刻胶溶剂浓度对最终实验结果的影响。得到了闪耀角减小量与...  (本文共69页) 本文目录 | 阅读全文>>

《光子学报》2016年04期
光子学报

闪耀角可调微型可编程光栅的优化设计与仿真模拟

基于体硅微加工技术,设计了一种闪耀角可调的微型可编程光栅,对该光栅进行优化设计,并理论计算不同闪耀角、入射角条件下相对光强分布,采用COMSOL有限元仿真软件模拟不...  (本文共5页) 阅读全文>>

《光子学报》2010年02期
光子学报

线偏光闪耀反射光栅衍射特性研究

通过数值方法对线偏光在Littrow装置中的理想导体闪耀光栅的偏振特性进行研究.用时域有限差分程序计算出任意偏振方向线偏光经过闪耀光栅衍射后的电磁场分布,提取衍射波的S偏...  (本文共4页) 阅读全文>>

《光学精密工程》2010年07期
光学精密工程

紫外全息闪耀光栅的制作

通过理论计算研究了影响闪耀光栅衍射效率的因素,并利用离子束刻蚀模拟程序模拟刻蚀闪耀光栅来确定闪耀光栅的制作参数。以理论计算的闪耀光栅参数为依据,以刻蚀模拟程序为指导,基于全息-离子束刻蚀工艺制作了闪耀波长分别为250nm和330nm,光栅尺寸分别为85mm×85mm,60mm×60mm,...  (本文共7页) 阅读全文>>

苏州大学
苏州大学

离子束刻蚀制作中阶梯光栅研究

本文围绕全息离子束刻蚀制作闪耀光栅的工艺特点,对全息离子束刻蚀制作中阶梯光栅的具体工艺进行深入研究。主要包含了以下几个方面的内容。首先,介绍了中阶梯光栅的特点,以及制作中阶梯光栅两种常用的方法:机械刻划和单晶硅湿法刻蚀法。介绍了国内外对中阶梯光栅的研究现状。并探讨了使用离子束刻蚀制作中阶梯光栅的意义。简要介绍了离子源系统以及模拟离子束刻蚀的线段运动算法。主要分析了线段算法形成槽形轮廓的过程、演化进程中线段交点的处理方法和处理表面拐角、边缘时去点的几种情况。理论分析了制作55°中阶梯光栅所需要同质掩模的槽形结构。基于直接制作大闪耀角槽形对同质掩模的要求较高且制作难度较大,通过制作35°闪耀角对应的反闪耀角55°,来实现中阶梯光栅槽形的制作。详细叙述了同质掩模制作过程中的工艺方法。运用刻蚀光刻胶和铬双层掩模来制作同质掩模,对比分析了刻蚀铬掩模的两种方法:干法离子束刻蚀和湿法腐蚀液腐蚀。实验中运用了反应离子刻蚀(RIE)刻蚀双层掩模,...  (本文共61页) 本文目录 | 阅读全文>>