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氧化物杂质对氟锆酸盐玻璃物理性质的影响

一、别 青 以氟铝酸盐玻璃为代表的重金属氟化物玻璃是近几年来迅速发展并引起人们注意的新的玻璃系统。这类玻璃透光范围宽(从 0.2—9 pm),还具有折射率低,色散系数大,非线性折射率小,化学稳定性较好,能耐BZj’和凡气的腐蚀,以及无毒性等优点。它们除了作为透红外玻璃用于各类红外和多光谱光学仪器外,还可作为高功率 HIJ’和 OO激光器的窗口材料。此外,它还有可能取代石英玻璃用于拉制超低损耗(99.99剐的手套箱内进行的。在基础玻璃的配合料中还引入了一定量的NH4H%以减少玻璃中杂质氧化物的含量。 退火玻璃经抛光后在Perkln-Elmer457型双光路光栅分光光度计上测定 4000~1000 om-‘范围内的红外透射光谱。玻璃的转变温度和析晶开始温度是用差热分析法在高纯氮气氛下测定的,样品的升温速度为 5“C/min。氟铬酸盐熔体的粘度是用 BrookfieldLVT型旋转式粘度计在氮气氛下测定的’“。 三、结果和讨论 表1列...  (本文共6页) 阅读全文>>

《玻璃与搪瓷》1993年03期
玻璃与搪瓷

氧化物杂质对氟锆玻璃光纤损耗的影响

一、前言 在氟错光纤中,氧化物杂质可以引起严重的散射和吸收损耗,其原因不外乎有以下几点: 1.析晶。氟化物玻璃在熔制时本身就是比较容易析晶的,而存在的氧化物杂质在其中又起着晶核作用,以致加速了析晶过程氏.,。 2.氧化物杂质自身的散射和吸收〔加幻。 3.由于氧化物杂质对ZrF’的分解、置换作用而产生的Zr场引起的散射和吸收损耗。 4.来自原料或从熔炼工艺引入的水,可以导致ZrF4、HfF4、AIF:的水解作用,产生氧化物、错氧基、氢氧基等,从而带来散射和吸收损耗。 前两个间题已有较多文献作了报道,本文只着重讨论后两个间题,并对一些常用氟化剂的氟化能力及其各自的优缺点作了比较。二、氧化物杂质对ZrF‘的分解作用在熔炼温度下,有相当多的氧化物都能和Zr凡起反应,但也有不少氧化物和Z军凡是不发生反应的。 1.主成分氟化物自身的氧化物杂质对Zr瓦的分解反应 常用的氟错玻璃主成分的氧化物杂质和ZrF4,HfF‘都能起反应,下: Hf凡+Z...  (本文共8页) 阅读全文>>

《钢铁研究学报》2000年04期
钢铁研究学报

氧化物杂质对铁氧化物还原动力学的影响

实际炼铁生产中常用的球团矿、烧结矿等含铁原料中常含有多种杂质 ,如 K2 O、Na2 O、Ca O、Mg O、Ni O、Si O2 、Al2 O3等。杂质的种类及含量与精矿成分、原料制备工艺等有关。回收的含铁废料如氧化铁皮、废渣中也含有多种杂质。前人曾就杂质对铁氧化物还原动力学的影响进行过一系列研究 ,但结果较为分散 ,且未充分量化 ,不同作者的实验结果之间缺少系统分析与比较。本文将对此进行系统的分析和总结 ,并尽可能加以量化。这些信息和表观活化能数据对相关生产过程的优化与控制具有实际意义。1 碱金属氧化物的影响  在高炉中 ,碱金属氧化物 ( K2 O、Na2 O)常因循环而富集 ,因而 K2 O、Na2 O对铁氧化物还原动力学影响的研究受到重视[1~ 3] 。   Roederer J等[2 ] 将粒度 50~ 1 50 μm及 31 5~50 0 μm的纯 Fe2 O3晶体用 K2 CO3溶液浸泡方法掺杂至 K与 Fe的摩...  (本文共4页) 阅读全文>>

《化学世界》1947年09期
化学世界

氮氣固定新法

氮氧固定法现在有一侗新的革命,那就是美圃著名科攀家桐推闰.。.co冲trell博士所菠明的加熟法T岁。rma-proee.s。向来耍把空中的氮氧固定焉氧化氮是需用髦力的,但在新扶中却不须用雷。其法将氮和氧的混合氟髓通遇菠熟的氧化物粒屠,再退入燃烧窒内携精加熟,然筱移入另一室内,通通未熟的氧化物粒屠,使混合氧艘突然冷却。是峙朱熟的粒屠温度升高,而前一室内粒屠的滥度剧降低,因得蒋供熟氧髓骤...  (本文共1页) 阅读全文>>

《化学通报》1956年02期
化学通报

用氫还原氧化物和氧化物的化学穩定性

在高等学校入学考拭中,很多学生对各种还原剂对氧化物作用的化学活淤性的咫题作了不正榷的回答,常常部为可以把还原剂(其中也包括金属)排列成与活度次序和似的序列,其中碱金属与昭估据着最边沿的位能,因此是最强的江原剂。很明颖,为了避免超出大翻,没有向学生指出,活度次序只川朴金肠组拓的水榕液,而还原剂的化学活胜是由被还原的氧化物和还原梭所得到的氧化物的热力学性贸决定的。┌─────┬───────┬────┬────────┬────────┬─────┐│暇化物 │卡/克当谊 │氧化物 │卡/克当盆 │氧化物 │卡/克当址 │├─────┼──────┬┴────┼────────┼────────┼─────┤│ CuO │18750 │{默 │ 32500 │ M一飞O │46550 ││ Cu夕 │20300 │…嚣 │ 32530 │ Na》0 │49补O ││ Bi夕: │2份970{ │{SnO │ 326分0│ 510.,...  (本文共2页) 阅读全文>>

《中国钼业》2002年06期
中国钼业

从钼氧化物中去除钨的新方法

日本一家公司研究出一种从三氧化钼中分离钨 ,制取高纯钼粉的新方法 ,以满足钼溅射靶对原料纯度越来越高的要求。在一般的纯钼粉中 ,含有10 0~ 2 0 0mg/kg的钨 ,这种钼原料中钨的去除非常困难 ,虽然实验室中有一些净化方法 ,但未能用于工业生产...  (本文共1页) 阅读全文>>