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γ-辐照对纯Y_2SiO_5和Eu~(3+)∶Y_2SiO_5晶体光谱性能的影响

研究了γ-辐照前后纯Y2SiO5和Eu3+掺杂的Y2SiO5晶体吸收光谱的变化,辐照后,未退火和氢气退火的纯Y2SiO5晶体在260~270 nm和320 nm波段产生了附加吸收峰,分别是由F心和O-心的吸收引  (本文共4页) 阅读全文>>

哈尔滨工业大学
哈尔滨工业大学

碳纸表面二硫化钼纳米墙的制备及电催化析氢研究

现代社会的发展对可再生能源和环保能源产生了巨大的需求。氢气(H_2)能量密度高以及零碳排放,被誉为未来最理想的能源载体。研究发现,二硫化钼的吸附氢原子的吉布斯自由能接近零,可以作为替代铂族贵金属的析氢反应的催化剂。化学气相沉积法(CVD)被认为是合成大面积、高质量、尺寸和厚度可控的具有不同形貌的二硫化钼(MoS_2)最实用技术,包括纳米管、纳米线、纳米片等,这与MoS_2的各向异性结构有关。垂直分布的MoS_2纳米片由于具有高纵横比的纳米结构导致了广泛的边缘位点暴露,这种结构在析氢反应(HER)中具有很大的潜力。本文采用自制的CVD系统,利用三氧化钼和升化硫作为前驱体的组合,在碳纸表面成功制备垂直分布的MoS_2纳米片也就是MoS_2纳米墙。为了进一步改善MoS_2纳米墙的催化活性,对其进行了氢气处理及合成MoS_2/MoO_x异质结构。氢气处理碳纸表面制备的MoS_2纳米墙,显示了特定的合成后处理MoS_2中缺陷数量和HER性...  (本文共64页) 本文目录 | 阅读全文>>

广西大学
广西大学

掺钛氧化锌薄膜的制备及其光电性能研究

以固相反应法制备的Ti0.015Zn0.985O为靶材,采用射频磁控溅射方法分别在普通玻璃,石英玻璃,ITO导电玻璃和Si片四种不同衬底上沉积TZO薄膜样品,研究不同衬底对TZO薄膜的晶体结构和光电性能的影响。以石英玻璃为衬底,通入不同氧流量在氧气氛中生长TZO薄膜,接着这些样品在氢气中进行400℃保温40min的退火处理,研究氢气退火对薄膜样品光电性能的影响。在ITO衬底上溅射沉积n-TZO/p-Bi2O3/n-TZO三层复合薄膜作为压敏电阻。用XRD和SEM测试TZO薄膜的晶体结构和表面形貌;用紫外-可见光分光光度计UV-2700测量TZO薄膜样品在200-800nm的光学透过率并计算其光学带隙;用PL谱仪测量在325 nm波长激发下TZO薄膜样品的发射光谱;用霍尔效应分析仪测量TZO薄膜的霍尔系数、载流子浓度和电阻率;用数字源表测量n-TZO/p-Bi2O3/n-TZO复合膜的I-V特性曲线,得出以下主要实验结果:(1)在...  (本文共86页) 本文目录 | 阅读全文>>

《国外电工仪表》1965年05期
国外电工仪表

电阻合金的氢气退火(波多尼斯基《细丝》厂的经验)

本文扼要介绍了苏联波多尼斯基《细丝》厂制造锰铜、康铜电阻丝的氢气退火工艺...  (本文共2页) 阅读全文>>

《河北理工学院学报》1950年30期
河北理工学院学报

氢气退火有助于超合金的抗氧化性

氢气退火有助于超合金的抗氧化性据美国俄亥俄州克里福兰国家航空和航天局的Lewis研究中心的研究人员称,...  (本文共1页) 阅读全文>>

《功能材料与器件学报》2004年02期
功能材料与器件学报

高温氢气退火提高硅片质量的研究

研究了硅片高温氢气退火的工艺技术,实验显示,在高温1150℃,在高纯氢气氛中退火处理至少60min,在硅片表面产生约50μm以上的...  (本文共5页) 阅读全文>>