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测量系统最优化

The study and design of the aeeurate and reliable measuring equiPment15 imPortant to the development and aPPlieation of modern automatie eontrol,testing and se、entifie exPeriment systems in the future. This PaPer Presents some design eonsiderations in the modern measurementsystem(MS)with oPtimum system solutions for its main eharaeteristiesand ProPerties:strueture,metrology,and dynamies.An MS‘5 bloek一diagiam 15shown ...  (本文共4页) 阅读全文>>

清华大学
清华大学

生物体系偏振测量系统的设计

偏振光能够探测生物组织的微观结构信息,而作为一种非标记、无损伤的检测技术,偏振成像技术已经在生物医学尤其是肿瘤癌症检测领域显示出潜在的应用前景。偏振方法的基础是偏振测量,快速稳定的偏振测量系统对偏振调制器件提出了较高的要求;同时,由于偏振测量具有复杂的误差源及误差传递性质,偏振测量系统必须经过合理的设计才能获得精确的测量结果。本论文对偏振测量系统的设计方法进行了系统的研究,提出了新型偏振调制器件和方法,并将偏振设计理论与偏振调制技术相结合进行了生物体系中偏振测量系统的设计。本论文以误差传递为线索,在降噪-优化-校准三个方面系统地研究了偏振测量系统的设计方法。本论文研究了全面评估偏振测量系统的方法,兼容现有优化指标;研究了检偏通道数目对优化的影响;归纳了偏振元件误差的校准方法,提出了非偏振元件偏振残差的校准方法,并在生物测量系统中对其进行了验证;提出了光束漂移的校准技巧及相应的60次穆勒矩阵测量方案;提出了最佳校准偏振态的选取方法...  (本文共197页) 本文目录 | 阅读全文>>

西安电子科技大学
西安电子科技大学

特殊环境下的光电图像获取与处理技术

火炮静态参数测量是现代火炮研究、设计和使用中的一个必须而重要的技术环节,随着火炮研制、生产水平和使用要求的不断提高,原来基于光学望远系统的人工测量、人工处理数据的测量方法已经不能满足需要,必须建立高精度、高效率、高度自动化的测量系统。本文对我们所研制的、以激光准直与CCD成像测量为核心的、火炮身管弯曲度和药室容积等静态参数测量系统中的光电成像和图像处理等关键技术进行了深入研究。在对现役的火炮身管弯曲度和药室参数的测量原理、测量方法、测量装备的性能及其局限性进行深入研究的基础上,我们设计并实现了一种以激光准直与CCD成像为核心的身管弯曲度和药室参数测量系统方案,本文就系统中特殊环境下的光电图像获取和高精度图像测量两个方面的内容进行了深入重点研究,即针对火炮身管内膛的特殊环境,研究设计了光电成像场景状态控制和近距离高清晰成像的光学系统方案,根据所获取的特殊图像,研究出了相应的图像预处理、图像校正和高精度图像测量方案和算法。在进行了原...  (本文共115页) 本文目录 | 阅读全文>>

《Science Bulletin》2018年08期
Science Bulletin

Experimental demonstration of nonlinear quantum metrology with optimal quantum state

1.IntroductionQuantum metrology is the science of pursuing high-precisionparameter measurements by utilizing the principles of quantummechanics[1,2].Quantum metrology has been widely applied inmany areas,such as magnetic/electric field sensing[3,4],measure-ment of weak signals[5],quantum computation[6],gravitationalwave detection[7–10]and so on.In general,the unknown param-eter v is encoded in a Hamiltonian H?v^A,whe...  (本文共8页) 阅读全文>>

《Chinese Physics B》2013年11期
Chinese Physics B

Quantum metrology

1.IntroductionThe progress of human civilization,in some sense,is aprogress of improving the precision of measurement.Fromthe unit defined by the lengthes of foot,hand,step,etc.tothat with vernier calipers,microscope,laser ranging device,etc.,the measurement precision is improved greatly,and thequality of people’s life has greatly improved at the same time.Precision measurement is not only important to demonstratephy...  (本文共10页) 阅读全文>>

《Optoelectronics Letters》2008年02期
Optoelectronics Letters

Model based reference metrology for dimensional characterization of micro- and nanostructures

Linewidth or critical dimension (CD) metrology is crucially important for production control in semiconductor and mask manufacturing. Stringent requirements on the stability of proc- ess control need highly stable CD metrology instrumenta- tion and measurement processes with sub-nm reproducibility. These requirements are specified for current as well as fu- ture technology nodes in the so-called International Tech- n...  (本文共5页) 阅读全文>>

《光学精密工程》2003年03期
光学精密工程

Precision nanometrology of a large area microstructured metrology surface

1 Introduction  Theauthorshavebeenworkingonanewsur faceencoderfordetectingmulti degree of freedom(MDOF)translationalandtiltmotionsofprecisionstages[1] .Thesurfaceencoderconsistsoftwofun damentalelements :asinusoidalmicrostructuredmetrologysurface ,whichisreferredtoastheanglegrid ,andatwo dimensional( 2D)slopesensor[2 3 ] .Theanglegridhasa 3Dmicrostructuredsur face ,whichisasuperpositionofsinusoidalwavesintheX andY d...  (本文共4页) 阅读全文>>