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锗膜沉积工艺的实验研究

1_甘I性旨~.J二二J 锗是一种重要的高折射率红外透光材料.它具有化学性能稳定,与其它膜层结合好等优点.另外由于锗的体电阻率p4000m,因而微量杂质效应对锗来说不是很重要山.锗的这些特点使之成为最重要、最常用的红外高折射率材料之一锗同其它红外半导体材料一样,膜层性能受沉积时的工艺条件影响较大.材料种类、沉积过程中的基底温度、蒸发方式和速率等都会对锗膜的性质产生直接的影响叽“,.尤其是用通常热蒸发方式沉积的膜层,其性能与沉积时的基底温度关系更大.如在室温基底上沉积的锗膜折射率低,应力大,以致膜厚超过一定值时膜层会由于应力大而卷裂山.另外,在通常工艺条件下沉积的膜层在牢固度等方面也存在着一些问题.本文对沉积工艺条件与锗膜性能的关系作了较全面的实验研究,并采用离子束辅助沉积技术来研究它对锗膜的光学性能、硬度、牢固度以及应力等的作用和影响,比较了不同工艺条件下沉积的锗膜的性能,取得了一些有意义的结果.2.实验和结果 实验用的价700...  (本文共6页) 阅读全文>>

《轻金属》1999年12期
轻金属

通过铝传送沉积工艺加工而成的能完全燃烧的纸

通过把铝进行传递沉积而成的一种被称为铝玻璃(Alglass)的纸已经由日本烟草有限公司研制出来(日本、东京,Toranomon/minofo-ku电话:+81-3-3582-3111;电传:+813-5572-1441;网址:http...  (本文共1页) 阅读全文>>

重庆大学
重庆大学

用Al_2O_3/Tin双联沉积工艺改善铝合金在重载条件下的摩擦性能

铝合金作为最重要的轻合金已广泛用于制造业,它具有一系列优越的物理、力学和工程性能:如比强度高,优良的导电及导热率,易于成形和加工,抗大气腐蚀能力强等优点。当然它亦表现出某些不足之处,例如其表面硬度较低,从而导致其耐磨性能较差,为改善其耐磨性,常采用表面沉积陶瓷膜层技术以提高其硬度,常用的气相沉积技术如物理气相沉积(PVD Physical vapour deposition) 化学气相沉积(CVD Chemical vapour deposition),物理化学气相沉积(PCVD Physical chemical vapour deposition)或物理辅助化学气相沉积(PACAD Plasma assisted chemical vapour deposition)以及离子增强化学气相沉积(PECVD Plasma enhanced chemical vapour deposition)。* 气相沉积法可在工件表面生成1-...  (本文共197页) 本文目录 | 阅读全文>>

《价值工程》2013年33期
价值工程

电火花表面沉积工艺研究现状

0引言对于电火花沉积技术的概念阐述目前还存在许多种解释,本文主要就电火花沉淀技术的概念分析为:通过特定电能对工作表面进行处理,通过火花将特殊的材质融入到工作物表面层,进而形成新的金属表面层,从而改变金属的各种性能。电火花技术在我国社会中的应用越来越广泛,尤其是在高技术行业得到快速的应用与发展。1电火花表面强化技术基本原理和技术特点电火花沉积的基本原理是,通过电极与工作件之间的以10~1000Hz的频率在极短的时间内将二者之间的接触点温度瞬间达到8000℃~25000℃,进而将电极的溶解物进行融化并且扩散到工作件表层,形成电极工作金属层。作为现代表面处理工作中的关键工艺,电火花沉淀技术具有以下特点:①电极接触时间短,传热距离短,可以避免因为热量的传入导致工作件因为高温等而出现性能或者外部的变形等。②结合强度高。③工作环境要求不高。④电极材料具有选择的灵活性。2电火花表面沉积工艺研究现状2.1电火花沉积工艺对沉积层厚度的影响我国对于...  (本文共2页) 阅读全文>>

《电镀与涂饰》1984年01期
电镀与涂饰

有机涂料自沉积工艺

自沉积涂饰,不耗电,不须磷化处理,主要应用于单层涂饰工艺。 最近1。年里,漆料自沉积工艺己从实验室试验发展为具有投产价值工艺,世界上已有相当多的涂饰工厂应用了这种工艺。要研究和发展这种工艺必须具有敏感的“化学头脑”,因为这很难从目前其他的涂饰工艺中引申出这种工艺所用的原料成份,或概括出这种工艺的流程来。与其他涂饰法相比,自沉积工艺有节约能源的特点,并符合联邦政府的关于挥发性有机化合物(厂 OC)空气污染的指标。因此,自沉积工艺有进一步发展的趋势。 概述 在六十年代里,人们曾发现一种浸涂溶液,这种溶液含有一种组成深层的聚合物(胶乳),一种酸,和一种氧化剂。由这些成份的最佳配比组成的槽液,其pH值为2.1一2.7。若把金属件浸入到这种槽液里浸涂,则浸涂于金属丧面的胶乳(或胶体)便会变得不稳定。钢表面暴露在这种酸性介质下时,会遭受到浸蚀而形成铁离子(在强氧化hlJ存在的条件下,很可能是Fo3十)注2。这些铁离子的数量足以使金属/涂料界...  (本文共5页) 阅读全文>>

《液晶与显示》2012年04期
液晶与显示

钝化层沉积工艺对过孔尺寸减小的研究

1引言TFT-LCD目前已成为当今社会显示领域的主要技术,该技术的产品以其应用广泛、节能、便携而受到广泛关注,目前为了提高TFT-LCD的画面显示品质,达到低能耗、高亮度、外形美观的目的,国内外相关领域进行了相关工艺改进,主要体现在利用树脂材料替代传统钝化层[1],薄膜晶体管的重新设计[2],过孔的缩减研究等方面[3],并且有部分工艺已经进行了工业利用。液晶与显示第27卷过孔的减小能有效提高画面开口率,而开口率的提高能有效改善显示品质,在相同的亮度下能消耗较少的能源,降低了能耗,而且目前随着TFT-LCD产品的更新换代,一些窄边框的产品尤其受到青睐,这同样要求在设计产品时候提供较小的过孔尺寸来对应,本文首先分析了在不改变刻蚀条件的情况下钝化层沉积工艺中产生黑点与倒角不良的条件,并在此基础之上仅仅通过改变顶层钝化层的沉积工艺条件就达到了减小过孔尺寸的目的,并对工艺优化后的产品进行电学性能评价,最终达到设计与产品的要求。2实验方法使...  (本文共6页) 阅读全文>>