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磁光Kerr效应的量子散射方法

磁光Kerr效应的量子散射方法王嘉赋,李佐宜(固体电子学系)摘要从量子电动力学的观点出发,通过计算光电子散射的微分散射截面,定量地给出了磁光Kerr转角和出射光椭圆率的微观量子表达式。关键词磁光Kerr效应;微分散射截面;微观量子理论;偏振光分类号TN201记录在磁光存储材料上的信息是利用磁光效应(通常是磁光Kerr效应)读出的。磁光Kerr角是表征磁光记录薄膜材料性能的最重要参数之一。由于材料的本征磁致旋光效应都很弱,因此如何找到一种本征磁光旋转角尽可能大的材料便成了获取大的磁光读写信噪比的一个关键问题。关于磁性材料磁光特性的研究,目前较多集中于实验方面,而这方面的理论研究,特别是微观量子理论研究则报导较少,迄今为止用于对磁致旋光效应的定量描述都源于经典电动力学的表达式即将磁光效应归因于介电系数张量或光电导张量的非对角项的贡献,有时也只是将其中的介电张量[1,2]或光电导张量[3~5]用相应的量子表达式作了替换,基于这一处理的...  (本文共4页) 阅读全文>>

《计量技术》1950年90期
计量技术

磁光薄膜在椭偏测量中的应用

磁光薄膜在椭偏测量中的应用金恩培,张立彬(哈尔滨工业大学应用物理系,哈尔滨150001)摘要由费尔德(Verdet)常数大的石榴石磁光薄膜制成的磁光调制器具有体积小、驱动功率低等优点。将它应用于椭偏测量中,可以降低对激光器输出光强稳定性的要求,测量准确度也会得到较大的提高。关键词磁光调制,磁光薄膜,椭偏测量技术一、引言由于椭偏测量技术具有非扰动性及高灵敏度,因此,应用很广泛。测量薄膜的厚度和折射率是其重要应用之一。但用椭偏仪采用光电法进行测量时,由于消光位置判断的不准确,会给测量结果带来较大的误差。除了这种直接极值判别法原理上准确度就不高以外,另外一个最直接的原因就是激光器的输出光强不够稳定引起的测量误差。倍频判别法[1]是判断消光位置的有效方法。本文基于这一原理,采用费尔德(Verdet)常数非常大的国产石榴石磁光薄膜[2]制成磁光调制器。这种调制器体积小、驱动功率低,适用于国产WJZ等型号的椭偏仪上。二、实验装置及工作原理实...  (本文共2页) 阅读全文>>

《管理科学文摘》1999年05期
管理科学文摘

新一代富士通磁光装置

报道富士通公司的3.5英寸新型磁光转录装置。与相似产品相比,这种装置具有很多优点(1兆字节录入量存储价格低,为30个生丁,要比LS120盘的类似指标1.1法郎低得...  (本文共1页) 阅读全文>>

《今日电子》1995年07期
今日电子

磁光技术获得全球性支持

下一代3.5英寸光盘不仅在容量上将超过压缩光盘(CD盘),而且还加人了写人和重写数据的功能,这种光盘可能于1996年上市:24家公司就有关600MB磁光(MO)盘技术的基本指标达成了一致的国际性协议。 在这个国际性合作组织的成员包括日本的富士通、NTT、佳能和东芝公司,美国的惠普、IBM和3M公司以及欧洲的飞利浦NV公司。该协议的产生完全是因为150工作组于94年7月下旬在北京召开的会议引起的。 该组织设想的高容量MO驱动器将取代目前的MO系统中正在使用的780毫微米激光驱动器。它使用的红色激光的波长较短,仅为685毫微米,而这...  (本文共1页) 阅读全文>>

《磁性材料及器件》2013年01期
磁性材料及器件

磁光材料及其在磁光开关中的应用

1引言当一束入射光进入具有固有磁矩的物质内部传输或在物质界面反射时,光波的传播特性,如偏振面、相位或散射特性会发生变化,这个物理现象称为磁光效应。磁光材料就是指在紫外到红外波段具有磁光效应的光信息功能材料。1845年法拉第首次发现磁致旋光效应,其后陆续发现了磁光克尔效应、塞曼效应和科顿-穆顿效应等,建立了基本磁光理论;二十世纪五十年代以后各种光路器件开始得到广泛研究和开发,对磁光材料的研究越来越深入[1]。利用其磁光特性及光、电、磁的相互作用和转换,可以制成具有光调制、光隔离、光开关、光存储等光电磁转换功能的磁光器件。人们对于磁光材料的研究及应用有力推动了磁光器件的研究,还促进了与磁光相关学科技术的日益发展。到目前为止,研究最广泛的磁光材料有磁光玻璃、磁光薄膜、磁光光子晶体、块状磁光单晶材料和磁性液体等。2磁光材料2.1磁光玻璃磁光玻璃属于磁光材料中的非晶体材料,在可见和红外光区有良好的透光性,光学均匀性好,有良好的磁光性能,成...  (本文共5页) 阅读全文>>

《信息记录材料》2000年Z1期
信息记录材料

光调制直接重写磁光多层膜的制备及其性能研究

1前 言  磁光型可擦写光盘具有高密度、可擦、可随机存取以及非易失等优点而得到广泛应用 ,但磁光盘具有存储速度慢、数据传输速率低的缺点。为了提高磁光存储的市场竞争力 ,必须提高磁光盘的存储速度和数据传输率。   直接重写技术 (Direct Overwrite,简称 DOW)是解决磁光盘传输速率低的有效途径。其研究主要可分成以下三方面 : ( 1)利用记录膜自身的退磁场直接实现单层膜光调制直接重写技术 [1~ 2]; ( 2)在激光辅助照射下 ,采用调制磁场实现磁场调制直接重写技术 (MFM- DOW)[3, 4]; ( 3)利用了多功能膜层的磁光温度特性和膜层间的交换耦合作用 ,通过调制激光功率来实现的多层交换耦合膜的光调制直接重写技术 (LIM- DOW) [5~ 7]。 这种技术可以同超分辨技术 (MSR)[8]结合 ,实现高速、超高密度磁光盘记录。但是,多层耦合膜的光调制直接重写技术的机理还有待于进一步研究 ,尤其需要...  (本文共4页) 阅读全文>>