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黄铜冷轧拉伸轧面择优取向

.山名..日‘.一月lJ舌 以往测定织构多用X射线法。测量的结果为参加衍射的数以千计的小晶粒之取向分布的总平均效应。SACP。法测定织构是对多晶试样中每个单晶体的取向进行测量,然后根据一定数目的单个晶粒的取向在标准投影图上的分布情况,确定有无织构存在。在测量过程中还可以直接观察每个晶粒的形态及晶粒变形情况,从而分辨孪晶和观察其分布状况。测量数据利用计算机处理护使测量迅速而方便[‘]。卜一 根据65一35黄铜成分可知面心立方结构的a相黄铜晶格参数为3.6邵入t2]。 2.将冷轧黄铜板材进行再结晶退火,然后进行拉伸变形及去应力退火处理(见表2:)。 表2热处理工艺 再、‘lPl退火一拉一。l变形—一一一一一一一一.—一 }_煲_.男_一’糟。l卯…气男)贤…丫uu石士IU℃lzV{3U},,,-,叫~-—一一‘去应力退火(回复)温度时InJ (分)250℃士10℃经上述处理后的试样用金相砂纸磨光, ,二实验规范一 1.试样为65一3...  (本文共5页) 阅读全文>>

《光学机械》1987年01期
光学机械

化学气相沉积(CVD)碳化硅厚膜的实验研究

引言 SIC是一种高熔点无机材料,它具有许多优良的特性,利用它做成同步辐射高能粒子束 的反射镜甚为理想〔’一‘〕。国外利用CVD技术,在S记烧结体J二或石墨基休上沉积S记致密厚 膜,经超光滑表面加工制成光学反射镜。但CVD工艺过程复杂,影响沉积层质量的因素众多 (如温度、总流量、CH。SIC13浓度、反应室压力及形状等),所以工艺参数选择的好坏,直 接关系到沉积层的质量。因此弄清各参数对沉积层质量的影响,找出最佳工艺参数是十分必 要的。 本文通过CH3S汇13/H:体系,常压下,在石墨基底上CVD SIC厚膜实验,观察了总流 量、温度及CH:SIC13浓度对沉积速率的影响,用扫描电镜及X射线衍射仪分析了沉积层的表 面形貌及组织结构,找出了生成致密厚膜的最佳工艺参数。二、实验.实验装置杖皇水一图1实验装置一60一 实验装置如图1所示,可分为以下几部分: 1.反应剂:CH3SICI。(一甲基三氯硅烷)分析纯,以H:为载气。 2.试样...  (本文共6页) 阅读全文>>

《发光快报》1987年03期
发光快报

ZnS蒸发膜的光感应表面形貌改善和择优取向增强

由于期望在较低的温度下能够外延生限,人们对半导体材料的光助沉积技术予以了很大关注。这主要是由于光感应效应能够增强表面吸附原子的再排列,因而降低了沉积温度。这一技术已广泛见于各种化学气相外延生长中,但对于其反应机制却探讨甚少。 最近,日本电气公司心NEC)光电研究所的H iroyuki报导了第一次在真空蒸发过程中运用光助生长手段得到表面形貌有所改善和择优取向有所提高的ZnS薄膜。并据实验结果得出结论:在这种力法中,光辐照的确有助于表面吸附原子再排列的增强。同时,在反应物分子不进行光化学反应的情况下,降低外延生长温度也是有可能的。 4个9纯的ZnS材料采用一般真空蒸发方法蒸镀在石英或蓝宝石衬底上。厚度在几百个nm。采用10一“毛的高背景真空以防止杂质污梁。衬底用硫酸和纯水进行预处理。蒸发时的衬底温度控制在150~250℃。用激光在沉积过程中照射沉积表面。波长在220~633nm之间可变,采用脉冲和连续波激发等不同的形式。光强度控制在...  (本文共1页) 阅读全文>>

《金属学报》1988年05期
金属学报

1Cr18Ni9Ti不锈钢微晶的耐局部腐蚀性能研究

4.S1000.70 ICr18NigTi是国内最常用的不锈钢,张云汉闺等人研究ICr18NigTi的磁控离子溅射层时发现,它有很强的耐磨和耐腐蚀的性能,在工业上具有很广阔的应用前景.但是至今为止,对于ICr18Nig叭微晶的腐蚀电化学特性还没有深人研究过,本文对这个问题进行了研究和讨论. 裹lx射线衍射峰强度Tablel(110),(200),(211)intensity l’atiOs of eoa石ngs with teX加1’亡SSPeeimen state1 10200FjxedRotatiO且10015.71实验方法2实验结果及讨论 控制溅射条件为:氨气压:O.ZPa,溅射功率:600v x 6.4A.溅射开始时,由于高能被溅粒子的轰击便基体温度迅速上升,十几分种内升到3?ooC并达到热平衡,以后保持这个温度,直到溅射停止. 作为基体的铜试样为10 x 10 x smm的长方体,沉积面用水砂纸磨到600号,在丙酮中用...  (本文共3页) 阅读全文>>

《压电与声光》1989年04期
压电与声光

用RF同轴磁控溅射技术制作c轴择优取向ZnO薄膜

优良的压电材料,ZnO薄膜已成功地用于制 一、前 言 作多种声表面波(SAW)器件和微波段的 随着电于技术的发展,对电子材料和元 声体波(BAW)器件,国外用 ZnO薄膜制器件提出了越来越高的要求,人们期望有更 作的彩电中频滤波器和频率高达几千兆赫至多性能优良,用途广泛,价格低廉的新材料 十几千兆赫的微波延迟线均已实用化。利用和新器件投入市场。ZnO薄膜作为一种多功 ZnO薄膜的半导体性能亦能制作多种敏感器能电子材料引起人们的注意,它不仅有大的 件(如气敏、力敏传感器等)和太阳能异质机电、光电、光弹系数,也有较大的热电系 结。现在ZnO薄膜的成膜技术已相当成熟,数和优良的温度特性,用途十分广泛。作为 能较容易获得性能优良的Z。o$膜。近年j\ 4 JgJ 29 来,围绕着hO薄膜新应用开展的研究工...  (本文共7页) 阅读全文>>

《腐蚀科学与防护技术》1989年01期
腐蚀科学与防护技术

磁控离子溅射1Cr18Ni9Ti不锈钢微晶的钝化机理研究

利用磁控离子溅射技术得到了bcc和Fcc以及两相共存的ICr18NigTi不锈钢微晶溅射层。用电化学方法研究了正常晶粒ICr18NigTi不锈钢及其微晶溅射层的钝化特性、并且在溅射bcc结构的ICr18NigTi不锈钢微晶时发现在两种不同的试样放置状态下,可得到两种不同择优取向的微晶。这两种不同择优取向微晶的钝化膜稳定性都较正常晶粒不锈钢有明显提高,且(110)择优取向微晶钝化膜的稳定性较(211)择优取向的稳定性高...  (本文共1页) 阅读全文>>