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PCVD反应器监控系统通讯程序设计

采用AI人工智能工业调节器和PC机组成PCVD反应器监测系统。通过AI调节器检测和控制PCVD反应室温度和气  (本文共3页) 阅读全文>>

《光纤与电缆及其应用技术》1987年03期
光纤与电缆及其应用技术

国外光纤工艺综述

本文根据赴荷兰、英国、美国和日本考察情况,扼要介绍了Philips光纤厂、AT&T光纤厂、康宁W...  (本文共7页) 阅读全文>>

《金属热处理》1987年11期
金属热处理

用PCVD技术沉积TiN涂层的研究

本文用直流等离子体化学气相沉积技术,在高速钢、Cr12、40Cr、GCr15及38CrM...  (本文共6页) 阅读全文>>

《电子器件》1988年03期
电子器件

CVD技术的进展(一)

扼要地论述了近年来得到迅速发展的四种CVD技术:LPCVD、MOCVD、MW—PCVD和LCVD.化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)是利用气态物质通过化学反应在基体表面上形固态沉积物(或薄膜)...  (本文共6页) 阅读全文>>

《半导体光电》1988年01期
半导体光电

卧式PCVD平板舟最佳参数的选择

本文从流体力学角度出发,分析了卧式PCVD系统平板舟极板间反应气体流速分布情况。讨论了不同几何尺寸平板舟对气体流和淀积膜均匀性的影响;指出造成卧式PCVD淀积膜不均匀...  (本文共5页) 阅读全文>>

《青岛化工学院学报》1988年02期
青岛化工学院学报

直流PCVD TiN膜针孔率的研究

用铁氰化钾贴纸法研究了PCVD(Plasma CVD)TiN膜中针孔率与沉积温度、样品表面粗糙度和膜厚度的关系。发现TiN膜薄时,针孔率高,针孔直径多...  (本文共8页) 阅读全文>>