分享到:

等离子体化学气相沉积技术的发展现状和展望

O前言 涂层材料近十几年来的迅速发展和应用,无疑是和各种气相沉积技术的发展,尤其是和放电等离子体在气相沉积过程的应用有着密切的关系.自从Mc Taggart于1967年发表‘电子放电中的等离子体化学”(尸Iasma Chemist:y in Electrieal Discharge)这篇开拓性著作以来,为低压非平衡等离子体化学的研究和应用开辟了科学技术的新领域,出现了许多利用等离子体条件下气固反应的新技术〔一‘〕.其中,将等离子体应用于化学气相沉积(CVD)过程形成了面目崭新的等离子体化学气相沉积(PCVD)技术.目前,这种方法已有18年左石的历史〔门.推动这一技术逐步发展和应用的重要原因是涂层沉积过程中基体的低温要求。传统的cvD方法的沉积温度很高,从而限制了用作涂层沉积的基体材料的种类.因此,一般CVD二叮法只对高温下性能不发生明显变化的基体材料较为理想,而对大多数材料来说,性能会石不卜j程度的损失.七十年代中期发展起来的物...  (本文共10页) 阅读全文>>

《兵器材料科学与工程》1985年12期
兵器材料科学与工程

欧洲第五届化学气相沉积会议在瑞典召开

欧洲第五届化学气相沉积会议于1985年6月17日至20日在瑞典乌普沙拉(Uppsala)举行。出席会议的国家有22个,除欧洲地区的国家外,还有美国、日本、南朝鲜和中国,到会的专家、学者近200名。 我国是第一次被邀请参加会议。中国真空学会薄膜专业委员会于去年九月在国内征集论文,报送会议18篇,被大会选入三篇。我国出席本届会议的代表共四名:电子工业部四川固体电路研究所高级工程师赛哲人、电子工业部辽河实验研究所工程师王士秀、复旦大学材料科学系付教授王季陶及兵器工业部五二研究所工程师沈启贤。 本届会议的召开,仅距第九届国际化学气相沉积会议举行后为期一年的时间,然而会议仍然收集到7。多篇论文,这些文章的手稿都是经过国际上的知名评论家审查过的,有的文章以摘要的形式收入会议录。会议收到的文章数量较多而且水平也较高,充分反映了目前一世界各国在这一领域内的研究是干分活跃的。大会编辑了一本会议论文集,共收入论文73篇。其内容包括:①基础理论研究方...  (本文共3页) 阅读全文>>

《稀有金属》1987年03期
稀有金属

化学气相沉积制取钨

一、前言 化学气相沉积(Chemieal Vapor De-positson,简称CVD)技术的发现与使用,可以追溯到1890年,当时为了适应灯泡工业的需要,德国的Erlwein等人首先提出在白炽灯的灯丝上,于氢气气氛下,形成熔点较高的金属碳化物的方法。由于用CVD方法沉积时,工作表面形状不受限制,甚至很小的孔穴和沟槽也可以均匀地沉积上,因而受到了人们的重视。 1959年以来,CVD钨的技术有了较大的突破,获得了高纯的和致密的涂层,从而得到了飞速的发展。目前,CVD钨的技术已在各个工业部门得到了广泛的应用。根据用户的不同要求,可以用CVD法获得多种钨的半成品及零件,如棒、丝、毛细管、钨粉、钨粒、钨合金等。本文有选择地介绍一些用CvD生产钨的某些工艺。故。CVD制得的管、丝及其他半成品再经加工,拉拔成管、丝等制品。 图」沉积钨装皿示欲图1.互涟WF。罐,2.恒温器;3.气气瓶;4.月:力计;5.毛细管;G.反应空外壳;7.从体;8...  (本文共4页) 阅读全文>>

《新技术新工艺》1987年05期
新技术新工艺

化学气相沉积制取钨制品

金属钨具有特殊的化学性能、物理性能和机械性能。·钨的化学性能稳定,部。“一100℃的硫酸、盐酸中变化较小,在热氢报酸溶液中保持稳定,只有在热的硝酸和王水中才有明显的变化。常温下,钨在各种酸液和孩液中均不发生反血钨与碳能生成wC、姚C两种化合物,均具有高硬度、高熔点的特性。纯钨呈灰色,熔点高达3500℃,热膨胀系数很低,钨的导电性能差,其电阻率比铜大三倍。 钨所具有的特殊性能,使它在冶金工业、化学工业、电子工业、国防事业中获得了广泛的应用。如电灯泡、电子管中的灯丝、X光射线管里的靶、火箭喷咀、咖且轴瓦等,都是钨制品,是其他任何材料所代替不了的。但钨的力旺性能很差,在冷状态下,很难进行力旺,锻压、轧制、拉丝都必须在力燃状态下进行。因此,一些异形件、小型件无法加工,加上钨的价格昂贵,使钨制品的广泛应用受到限制。而化学气相沉积(以下简称CVD)技术解决了异形件的力旺,且获得的制品致密、纯度高。并可充分利用钨的加工废料,大幅度降低了各种钨...  (本文共2页) 阅读全文>>

《国外金属热处理》1987年02期
国外金属热处理

中温化学气相沉积

Metall:esellsehaft公司在50年代初首先应用了旨在硬化金属材料表面的、在钢表面镀覆TIN的化学气相沉积CVD技术(Ch-“m让alVapor Depositi。二:CVD)(1)。其后CVD技术又被应用于模具钢及高速钢,接着Krupp一W记ia公司与Sandvik公司于6。年代后期发表一r在超硬合金制品表面进行了CVD镀覆的报告(2、 日本于1968年末开始引进CVD技术,首先应用于切削工具。此外,自1972年第三届CVD国际会议以来所发表的文献也表明:在CVD技术上已取得了众多的研究成果(卜,“)。 这些年来,作为金属材料表面硬化方法的CVD技术已在日本工业中获得广泛的应用(13一19’。目前相当数量的CvD处理设备正在超硬合金制造工广和热处理专业土厂工作着。超硬合金以及高速钢、合金钢、不锈钢等各种制品通过C VD镀覆上一层硬质TIC或TIN等金属间化合物后,改善了它们的耐磨性、耐热性、耐腐蚀性,及装蚀性等,从...  (本文共6页) 阅读全文>>

《国外金属热处理》1987年06期
国外金属热处理

在钢质零件上建立涂层的中温化学气相沉积法

中温化学气相沉积(以下简称MT—CVD)处理是由瑞士Ber二a公司的B。rnex分公司改进的一种很有发展前途的新型化学气相沉积方法,这种方法是将耐磨的钦、的碳、氮化合物Ti(C·N)涂覆在工件和工具表面上. 本文就不同温度下涂层的沉积速率和涂层组织、结构、形态、成分、残余应力,耐磨性、耐腐蚀性的差别,对MT一cvD法和常规的高温化学气相沉积(以下简称HT一CVD)法所获得的涂层的各种性能进行了对比. 本文将提及的坚固的耐磨涂层,包括硼化物,碳化物和其它多组元型化合物。这种徐层以前是用与固体渗碳法相似的密封渗入处理的化学热处理方法获得的。化学热处理方法己在钢、非铁金属和各种合金上应用多年、效果良好,但这种方法劳动强度大,且不能实现自动化操作. 与化学热处理方法不同,化学气相沉积(以下简称CvD)、尤其是MT一CvD法可以改善劳动强度,有利于实现自动化操作,是一种可资选用的恰当的方法. MT一CVD法的,工艺参数 MT一CvD处理是...  (本文共4页) 阅读全文>>