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用S5-115U可编程控制器实现建筑玻璃真空镀膜生产的自动控制

用S5-115U可编程控制器实现建筑玻璃真空镀膜生产的自动控制魏海波,张勇,赵新宇(机械工业部沈阳真空技术研究所)摘要本文介绍了用S5-115U可编程控制器实现建筑玻璃镀膜生产的自动控制,实现对磁控溅射靶电源自动控制,系统组成,程序编制及在应用中注意的问题。该系统稳定,可靠。功能强,维修方便。同时,解决了靶极异常放电对镀膜质量的影响,从而实现了建筑玻璃真空镀膜生产过程的自动化。主题词:自动控制,真空镀膜AutomaticControllingoftheProducingProcessinArchitecturalGlassCoatingSystembyUsingS5-115UPC¥WeiHaibo,ZhangYong,ZhaoXinyu(ShenyangVacuumTechnologyInstitute)Abstract:Inthispaperitisintroducedthattheautomaticcontrollingof...  (本文共6页) 阅读全文>>

权威出处: 《真空》1940年30期
《造船技术》1994年06期
造船技术

真空镀膜新技术简介

真空离子镀膜属于等离子表面技术范畴,目前在世界上可称之为最新技术。过去的普通真空镀膜工艺,是将镀料置于真空中进行蒸发,然后以分子和原子或原子团形态在工件表面沉积成膜,因为此时的粒子能量只有0.1~leV,所以难以产生高质量膜层。目前采用的真空离子镀膜技术,是把真空技术和等离子离化技术结合起来,便能产生高质量的膜层。工艺原理最新的真空镀膜技术,使称作为物质第四态的等离子体的特性得到充分应用。新的真空技术,使粒子的自由度在电场作用下提高到10‘~10’cm,并获得10~10‘eV的能量,被激活的带电粒子对工件表面膜层的生成极为有效。在对工件表面进行离子镀膜时,先将锻件置于封闭的的容器内,在特定的真空环境中加热,升温;并用离子轰击镀件表面进行清洗;然后打开高能发生器将固态镀料蒸发离化,形成气化状态的等离子体,在电场作用下,在工件表面生成膜层。真空镀膜技术的发展随着自然科学技术的不断发展,对金属表面处理不断提出新的更高的要求。以往的镀膜...  (本文共2页) 阅读全文>>

《真空》2009年04期
真空

《真空镀膜技术与工艺》和《真空镀膜设备》出版发行

由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术与工艺》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术与工艺》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(CVD)、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜机各机构元件的设计计算、设计...  (本文共1页) 阅读全文>>

权威出处: 《真空》2009年04期
《建材工业信息》1991年18期
建材工业信息

高速发展的真空镀膜玻璃

平板玻璃的镀膜方法有许多种,其中大面积真空镀膜的发展速度较快,自1979年问世以来到1990年世界真空镀膜设备的总生产能力,如设备的运转率按90%、产出率96%,负荷系数为。.功计算,1990总产量已达到5000万平方米。1986一1988年的三年间平均每年增加600万平方米的生产能力。 镀膜玻璃主要用于建筑业和汽车制造业,用在生筑业的约90%是遮阳和隔热玻璃,今后由于人们对节能和环保的要求越来越高,预计镀膜玻璃还会有更大的发展,例如,美国用真空镀膜法生产的低辐射隔热玻璃在建筑用玻璃中的比例,1984年为1%,1988年上升到21%,预计到1994年将上升到44%。欧洲市场的发展情况也大致与此相似。用在汽车制造业的真空镀膜玻璃自1986年以来有了很大发展,到1991年世界汽车用镀膜玻璃的总生产能力估计为二250万平方米/年,约占整个汽车用玻璃的0.7%。其中生产能力最大的是日本占67%,其次是美国占2...  (本文共1页) 阅读全文>>

《真空》1979年06期
真空

真空镀膜观察方法的改进

在半导体器件和光学器件生产中广泛的应用真空镀膜设备,制备各种薄膜,在镀膜过程中自始至终地观察蒸发和膜层形成情况,以控制膜层厚度,保证薄膜元件质量。 目前一般使用的镀膜设备其观察方法是:借助镀膜室玻璃钟罩或金属钟罩上开设的玻璃观察窗进行观察。有的用机械刷来擦除观察窗上的被镀物。在工作实践中我们发现以上方法存在如下问题: 一、在镀膜的初期,能够清楚地观察到材料熔化和膜层生长情况。但随着镀膜的继续进行,玻璃钟罩或观察窗上同时蒸镀上一层膜层,由于膜层逐渐增厚,以至观察不到。虽然有的镀膜室有机械刷但也不能完全擦除,这样在镀膜的后期就观察不清,因此不能有...  (本文共1页) 阅读全文>>

权威出处: 《真空》1979年06期
《光电子学技术》1983年04期
光电子学技术

真空镀膜设备的实际清洗方法

任何一台真空镀膜设备,除了实际产品被镀膜复盖外,其内表面也将逐步蒸涂上一层物质。这种物质的积累最终达到的程度,会阻碍真空镀膜设备另部件的正常工作,或者显著降低产品的产量和质量,这时真空设备必须清洗。在现代化的企业中,大多数镀膜设备要严格按照规定的时间表来清洗。该表就是在达到上述清洗条件之一以前能使用的最多镀膜次数来制订的。 虽然,镀膜钟罩内沉积的物质,只要不阻碍另部件的正常,工作,一其本身不成问题。但是,吸附在逐层之间的大气和残余气体将构成一个实际上的漏孔,延长了达到规定真空度所需时间,薄膜内部的应力能引起起皮。对于这种基片和薄膜内的内应力来说,给定了薄膜的实际吸附数值,而薄膜的“内在”的附着力是不同的。因为“内在”附着力与最初几个单元层一起建立的,本质上保持不变,又因为内应力随着薄膜厚度的增加而增加,薄膜最终达到这样一个厚度,它本身的应力使薄膜在基片_仁破裂。当具有不同膨胀系数的材料几次互相蒸涂,或者当金属膜与残佘气体或大气形...  (本文共10页) 阅读全文>>