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ECR离子源主要参数对离子束流影响的研究

电子回旋共振(ECR)离子源具有工作寿命长、束流强度大、性能稳定、无极、耐腐蚀、能在低真空下工作等优点,所以在许多领域得到广泛应用,现有的一台高产额中子发生器采用的就是ECR离子源。ECR离子源实验台结构复杂,部件较多,动态参数测量困难,其参数之间又相互影响。初步实验已证明这些因素严重影响了ECR离子源束流的大小和稳定,甚至导致无束流现象。在初步实验基础上对ECR离子源部分部件进行改进;对ECR离子源主要参数(微波功率,气体压强,磁场,等离子体密度,束流强度)进行测量,研究主要参数与离子束流之间的规律,利用得出的规律来调整ECR离子源的工作状态,获得稳定,束流大,品质好的离子束流。本论文主要研究内容和成果如下:介绍了电子回旋共振原理;ECR离子源的工作原理;低温等离子体的产生的形式;ECR离子源实验台的结构。对微波功率,真空系统,放电室的磁场,离子束流的测试方法进行分析;利用朗谬尔探针(发射探针和单探针结合)对ECR等离子体进行  (本文共66页) 本文目录 | 阅读全文>>

清华大学
清华大学

强流ECR质子源及束流引出和传输特性的研究

强流ECR (Electron Cyclotron Resonance)离子源作为加速器系统的前端注入设备,其核心部件的设计是影响其工作性能以及产生束流品质的关键。ECR离子源具有结构紧凑,可产生高密度等离子体,性能稳定,可重复性好等优点。然而,由于其系统组成的特点,各个核心部件的性能都会影响产生束流的品质,尽管研究者们对于离子源的调试已经做过很多有借鉴意义的工作,但对影响其关键性能的主要因素和相关理论还不能做出令人信服的解释,因此我们需要在进行离子源的设计中,试图对能反映束流品质的关键部件和离子源中的等离子体参数进行正确的描述和理解。这种基于等离子体诊断来研究束流性能的方法也是目前国内外强流ECR离子源设计与研究领域所欠缺和需要的。为解决这一问题,本文以ECR质子源为研究对象,对ECR氢等离子体进行了发射光谱诊断和碰撞辐射模型研究。借助实验检验,优化了ECR质子源核心部件的设计,研究了束流引出以及传输特性。其创新之处体现在:一...  (本文共110页) 本文目录 | 阅读全文>>

《武汉科技大学学报(自然科学版)》2001年03期
武汉科技大学学报(自然科学版)

构建网络经济时代的ECR营销渠道模式

为适应网络经济时代全球化竞争的需要 ,我国企业必须重视研究消费者需求...  (本文共3页) 阅读全文>>

《电子对抗技术》1988年06期
电子对抗技术

最新的电子攻击侦察机“旋风”ECR

由帕那维亚公司(注)(PANAVIA)生产的旋风式战斗机最初称之为 MRCA(MultiRole Combat Aircraft),是作为多用途战斗机开发的。最早开发出来的是旋风 IDS(Inter...  (本文共6页) 阅读全文>>

《宇航学报》2019年12期
宇航学报

10cm ECR中和器性能优化实验研究

针对电子回旋共振(ECR)中和器性能无法满足实际应用需求的问题,开展了10cm ECR中和器的性能优化实验研究,在分析现有ECR中和器内部结构的基础上,提出新的结构改进方案。通过改进ECR中和器的电子束流引出对比实验,...  (本文共7页) 阅读全文>>

大连理工大学
大连理工大学

微波ECR磁控溅射制备超薄a-SiN_x薄膜及其特性研究

自1956年IBM向世人展示了世界上第一台商用磁盘至今,已有五十余年。其间,磁盘虽没有象CPU那样经历了飞速发展,但其存储密度在不断增加。尤其在近年来,随着巨磁阻磁头(GMR)、磁阻磁头(MR)等技术的应用,磁盘存储密度迅速提高(年增长100%)。同时,由于人们对计算机的依赖程度越来越高,“磁盘有价,数据无价”,因此人们在对磁盘存储密度提出更高要求的同时,对其使用寿命以及可靠性也提出了更高的要求,即对磁头/磁盘保护膜的性能提出更高要求。提高磁存储密度要求必须减小磁头和磁盘间隙,即减小磁头/磁盘保护膜厚度。未来,在磁存储密度达到1T bit/in~2时,磁头/磁盘保护膜在具有必要的抗腐蚀、抗磨损性能同时,要求其厚度降至2.5nm以下。本论文围绕微波电子回旋共振等离子体性质,采用非平衡磁控溅射技术,开展一系列研究工作,制备出满足磁头/磁盘保护膜使用要求的超薄a-SiN_x薄膜。主要研究内容如下:(1)在微波电子回旋共振等离子体对Si...  (本文共124页) 本文目录 | 阅读全文>>

《哈尔滨师范大学自然科学学报》2001年01期
哈尔滨师范大学自然科学学报

微波ECR等离子体参数测量及分析

利用双探针测试了微波 ECR等离子体参数 ,发现获得大面积均...  (本文共3页) 阅读全文>>