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永光化学:生产基地渐入佳境 LED光刻胶独树一帜

光刻胶是半导体芯片和平板显示器加工领域的重要配套材料。永光化学在苏州设立生产基地,就近服务中国大陆客户,  (本文共2页) 阅读全文>>

《科学技术创新》2021年12期
科学技术创新

分区域精确调控光刻胶成膜形貌方法研究

本文介绍了一种不改变配方前提下分区域精确调控光刻胶形貌的方法,并通过理论分析调整...  (本文共2页) 阅读全文>>

《应用化学》2021年09期
应用化学

《光刻胶材料》专辑序言——光刻胶材料助力“中国芯”

光刻是指通过紫外光曝光将掩膜图形转移到基底表面光刻胶上的工艺,是微纳加工制造中最关键的技术之一。1952年,光刻被首次用于集成电路的制造,自此信息技术得到了飞速发展。光刻工艺是芯片制造中难度最大、耗时最久的工艺,成本约占整个芯片...  (本文共2页) 阅读全文>>

《应用化学》2021年09期
应用化学

光刻胶成膜剂:发展与未来

随着集成电路制程向着3 nm乃至1 nm推进,光刻胶作为集成电路制造中最为繁杂的光刻工艺所需的重要耗材,愈发显示其重要性及挑战性。光刻胶随曝...  (本文共12页) 阅读全文>>

《应用化学》2021年09期
应用化学

193nm化学放大光刻胶研究进展

193 nm光刻胶主要有化学/非化学放大、分子玻璃和无机-有机杂化等类型。目前,商业化193 nm光刻胶基本为化学放大型,主要成分包括聚合物...  (本文共14页) 阅读全文>>

《信息系统工程》2021年08期
信息系统工程

去年国内市场规模同比增长约40% 光刻胶迎来国产替代机会窗口

光刻胶,是一种感光材料,在光的照射下发生化学反应,利用溶解度的变化将光学的信号转化为化学信号,通过曝光、显影及刻蚀等一系列步骤实现电路从掩模转移到基片上。因此光刻胶的性能决定...  (本文共1页) 阅读全文>>