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掩模基版产业升级需政府扶持

衡量掩模基版质量水平的主要指标是膜厚、反射率、光学密度的均匀性、膜附着强度及针孔,控制水平需达到每片基版3μm~  (本文共1页) 阅读全文>>

《信息记录材料》2020年03期
信息记录材料

掩模版表面灰尘检查设备的优化

如今是经济和科技都飞速发展的时代,掩模版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩模版,传统的掩模版生产工艺中检测中需要将掩模版利用翻...  (本文共2页) 阅读全文>>

《传感器与微系统》2019年07期
传感器与微系统

基于直写技术的微纳掩模制作技术研究进展

微纳掩模制作是进行刻蚀、沉积和改性等微纳加工工艺之前的主要工艺,是微纳米加工过程中的关键步骤和基础。高质量、柔性、低成本、高效的掩模制作对微/纳机电系统(MEMS/NEMS)、微米纳米技术、微/纳电...  (本文共5页) 阅读全文>>

《电子与封装》2017年08期
电子与封装

基于RFID的数字化掩模制造

介绍了中微掩模智能化生产系统,提出了利用RFID技术实现对掩模版制造流程的智能化管理。利用智...  (本文共5页) 阅读全文>>

《电子工业专用设备》2012年05期
电子工业专用设备

相移掩模清洗结晶控制

在高端集成电路制造方面,普通二元掩模已经不能满足晶圆使用要求。目前,高端(线宽0.18μm以下)集成电路生产主要采用相移掩模。相移掩模(Phase Shift Mask)制作过程...  (本文共3页) 阅读全文>>

《电子工业专用设备》2006年04期
电子工业专用设备

凸版光掩模公司

原杜邦光掩模公司)是凸版印刷株式会社的光掩 模集团的一部分。凸版印刷株式会社是一个多方位 经营的全球公司,...  (本文共1页) 阅读全文>>