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稀土铝合金防腐第二代产品微弧等离子TC问世

本报讯在日前于北京召开的全国甲级设计院设计应用研究会上,一项国家发展和改革委员会立项、被国家科委列为863  (本文共1页) 阅读全文>>

《高压电器》2017年04期
高压电器

溶液中微弧等离子体在材料表面处理的研究进展

溶液中微弧等离子体是气体等离子体在溶液中的发展和应用,文中综述了溶液中微弧等离子体在材料表面处理的研究进展。溶液中微弧等离子体在阳极表面可发生微弧氧化、纳米尺度的抛光研磨、纳米尺度重构、纳米...  (本文共4页) 阅读全文>>

浙江工业大学
浙江工业大学

基于有限元法的微弧火花沉积仿真模拟

微弧火花沉积是一种绿色制造技术,具有显著的经济和环保价值。但是由于其复杂性和随机性,人们在实际实验中很难探究出其具体规律。本文基于有限元仿真方法,仿真模拟微弧火花沉积的单脉冲温度场,并进行实验验证,得到仿真模型,研究微弧火花沉积过程中的特点及规律。(1)利用有限元软件对微弧火花沉积进行单脉冲温度场模拟,表明温度最高点远远高于其沸点,认为脉冲放电不仅使电极和基体材料熔化,而且会使材料汽化,形成放电凹坑。(2)通过建立的仿真模型对基体熔池凹坑进行研究。表明凹坑熔宽和熔深都随电流的增大而增大,但熔宽变化明显,故产生的熔池凹坑形状为碟形。凹坑尺寸同样也随电压增大而增大,并且在小电压时,电压对凹坑尺寸的影响较大。(3)对比钛与铁镍铬合金的单点沉积实验,结果表明微弧火花沉积斑呈现出3种样貌,分为“飞溅”形、“粘连”形和“破碎”形。并通过实验与模拟凹坑尺寸对比,验证了模型的可行性。(4)对加工过程中的电极温度场进行仿真模拟,表明1 mm直径电...  (本文共75页) 本文目录 | 阅读全文>>

浙江工业大学
浙江工业大学

基于高能微弧火花沉积技术的柱状微结构制备研究

柱状微结构在工业中有着广泛的应用,例如用于强化传热、作为微支撑结构等,而微弧火花沉积作为一项再制造和绿色制造技术,具有显著的经济和环保价值。目前,微弧火花沉积制备柱状微结构还鲜有报道,基础工艺和沉积理论尚待研究。本文基于微弧火花沉积技术,制备柱状微结构,采用正交试验法,进行了工艺参数实验,基于统计模型进行工艺参数优化,使用SEM、EDS、XRD、显微硬度计和压力实验机等系统对形貌、组织及性能进行分析,并从单脉冲沉积理论出发,提出了柱状微结构沉积模型。主要研究内容和所获结论如下:(1)微弧火花沉积技术能够制备不锈钢、镍基、钴基和复合结构柱状微结构。通过截面金相观察发现,柱状微结构是由众多沉积薄层交错堆叠而成,与基体呈良好的冶金结合,内部无明显裂纹、气孔和未熔合缺陷,显微组织以定向生长柱状晶为主,柱体顶部有等轴晶出现。(2)微弧火花沉积前期,柱状微结构高度与时间呈正比,30~80 s内高度达到最大值,由于柱体增高后,限制了顶部熔池的...  (本文共103页) 本文目录 | 阅读全文>>

西安理工大学
西安理工大学

微弧放电区间沉积参数对TiN薄膜微观结构与性能的影响

依据微弧放电区间大电流高电压,可大幅度提高阴极靶面离子轰击强度及轰击密度的特点,本课题利用双脉冲电场环境,通过调控平均靶电流使气体放电伏安特性处于辉光放电区间以及具有反欧姆特性的微弧放电区间,同时在微弧放电区间不同氮气流量下制备TiN薄膜,并对薄膜的微观结构,力学及耐腐蚀性能进行检测与分析,研究不同气体放电区间下所制备TiN薄膜的性能差异以及微弧放电区间氮气流量对TiN薄膜结构与性能的影响,得到如下结论:利用双脉冲电场环境,通过提高平均靶电流的方式将气体放电伏安特性由辉光放电区间(平均靶电流2.5A),并制备多组TiN薄膜。通过对薄膜的物相及结构的分析可知:随着平均靶电流的增大,TiN薄膜的择优取向由辉光放电区间的(200)晶面转变为微弧放电区间的(111)晶面,且结晶程度有明显提高;晶粒由无序的团簇结构转变为规则的三角锥状结构。对薄膜的硬度、结合强度及耐腐蚀性研究可知:辉光放电区间与微弧放电区间的变化规律一致,均随着平均靶电流...  (本文共65页) 本文目录 | 阅读全文>>

《热加工工艺》2012年20期
热加工工艺

激光熔覆-微弧火花沉积复合修复技术的研究

分别指出了激光熔覆技术和微弧火花沉积技术各自存...  (本文共4页) 阅读全文>>