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中科院光电所研制出新型光刻机

【本报南昌讯】近日,由中国科学院光电技术研究所与南昌航空大学研制的“步进投影无掩模版数字光  (本文共1页) 阅读全文>>

《电子元器件与信息技术》2020年10期
电子元器件与信息技术

各类型光刻机对准标记设计分析

国内芯片缺口比较大,每年从国外进口的芯片超过石油行业,达到三千亿美金以上,半导体芯片目前是国家重点关注的行...  (本文共2页) 阅读全文>>

《光学学报》2019年12期
光学学报

基于差分进化算法的光刻机匹配方法

提出一种基于差分进化算法和微反射镜阵列(MMA)光源模型的光刻机匹配方法。加入MMA光源模型,利用差分进化算法优化微反射镜光斑分布,以实现光刻机匹配。与通常用于自由照明系统的光刻机匹配方法相比,本方法能直接优化MMA参数,有...  (本文共10页) 阅读全文>>

《电子工业专用设备》2020年01期
电子工业专用设备

2019年全球光刻机市场分析

根据芯思想研究院(Chip Insights)的数据表明,2019年全球半导体、面板、LED用光刻机出货约550台,较2018年减少50台。其中半导体前道制造用光刻机出货约360台;半导体封装、面...  (本文共1页) 阅读全文>>

《安徽科技》2020年06期
安徽科技

荷兰科技创新对我国的启示

荷兰ASML公司,是全球唯一一家顶级芯片制造设备——极紫外光(EUV)光刻机的供应商,要想制造出7nm以及更先...  (本文共4页) 阅读全文>>

《现代制造技术与装备》2020年06期
现代制造技术与装备

光刻机精密运动框架的一体化设计与3D打印制造

作为新兴的制造技术,3D打印不仅是产品创新的利器,更是高端装备制造的重要研究方向。研究遵循电子束熔覆工艺特点,以零件结构与功能需求为正向切入点...  (本文共3页) 阅读全文>>