自释釉形成的动力学初步分析

1.前言在陶瓷产品的表面施一层釉料形成类玻璃质薄层，既提高了产品的外观质量，又改善了  (本文共4页) 阅读全文>>

陶瓷学报

自释釉制备技术的研究进展

自释釉是利用烧成或干燥过程中坯体自身释放熔(溶)剂扩散到表面而形成釉层,由于省去釉料加工和施釉环节,可以显著...  (本文共6页) 阅读全文>>

诗潮

句国栋作品

...  (本文共2页) 阅读全文>>

景德镇陶瓷大学

R_2O-RO-Al_2O_3-SiO_2体系自释釉的制备工艺研究

随着时代进步,陶瓷类制造业飞速革新。近些年,我国的艺术瓷和日用瓷产量均为全球首位。但高产量伴随着高污染、高消耗和高成本,因此陶瓷行业节能减排省料成为当务之急。本课题研究的自释釉可以通过省去上釉工艺,达到减少原料消耗的目的。本文主要研究R_2O-RO-Al_2O_3-SiO_2体系自释釉制备和形成机理,探究不同配方和不同制备工艺对自释釉形成的影响。采用光泽度仪检测试样表面光泽度,使用XRD分析试样的物相组成,采用DSC分析坯体在加热过程中的物理和化学变化,采用SEM、EDS对试样微观结构、元素分布进行分析,并在工艺因素对自释釉性能影响和配方优化基础上,采用不同工艺制备出不同种类自释釉样品。主要研究内容和结果如下:(1)通过正交实验和单因素实验对水溶性自释釉(Na_2O-K_2O-Al_2O_3-SiO_2体系)配方组成以及烧成工艺等进行研究,探究原料以及烧成温度、保温时间以及自释剂含量对自释釉效果的影响,并探究在干燥阶段自释剂在坯...  (本文共69页) 本文目录 | 阅读全文>>

中国陶瓷

自释釉瓷质砖的制备及机理研究

以钾长石、石英、高岭土为主要原料,以碳酸钠为自释剂,在烧成温度1150～1300℃制备自释釉瓷质砖。采用坯体分层和质量差值法研究自释剂在干燥阶段的扩散过程。采用光泽度仪、SEM、EDS等对自释剂含量、烧成制度...  (本文共8页) 阅读全文>>

陶瓷

自释釉形成的动力学分析初步

从扩散动力学的角度出发 ,对自释釉在干燥过程和煅...  (本文共3页) 阅读全文>>