分享到:

美推出软干涉光刻技术

美国科学家在纳米制作技术领域获得重大进展,通过将干涉光刻和软光刻技术结合在一起,推出称为软干涉光刻技术  (本文共1页) 阅读全文>>

权威出处: 科技日报2007-09-14
《科学技术创新》2018年33期
科学技术创新

激光光刻技术的研究与前景

随着我国经济社会的快速发展和科技水平的进一步提升,半导体工业技术得到了快速的发展和进步,而随着集成电路特征尺寸不断变小、半导体部件性能准确度要求不断提高等市场需求的改变,制约半导体工业发展关键技术之一的光刻...  (本文共2页) 阅读全文>>

《科学》2017年03期
科学

光刻技术的历史与现状

集成电路的飞速发展有赖于相关的制造工艺——光刻技术的发展,光刻技术是迄今所能达到的最高精度的加工技术。...  (本文共5页) 阅读全文>>

权威出处: 《科学》2017年03期
《上海应用技术学院学报(自然科学版)》2015年04期
上海应用技术学院学报(自然科学版)

基于特殊X射线光刻技术的空心微针制备技术

介绍了2种基于特殊X射线光刻技术的空心微针制备方法.一种为基于2次不同X射线光刻技术的制备方法,即第1次为通常意义的带掩膜...  (本文共3页) 阅读全文>>

《科技与企业》2015年13期
科技与企业

下一代光刻技术

本文从多方面对下一代光刻技术做了介绍和分析,重点描述了纳米压印光刻技术、极紫...  (本文共1页) 阅读全文>>

《电子技术与软件工程》2013年21期
电子技术与软件工程

激光干涉光刻技术的分析

在微细加工和集成电路(IC)制造当中,光学光刻技术是毋庸置疑的主流技术。现在的IC集成度越来越高,这就对光刻分辨力有了更好的要求。但光刻物镜数值孔径(N A)和曝光波长(λ)在一定程度上限制光学光刻的分辨...  (本文共1页) 阅读全文>>