基于中介层散射的两步移相宽场三维显微成像技术研究
曲面光学元件涉及微结构曲面光学元件和连续曲面光学元件等。该类光学元件对光学系统成像质量的提高具有显著优势,因而得到了广泛使用。但通过传统光学手段对该类光学元件面形进行成像却是一个困难的问题。产生这一问题的原因是,在共焦扫描测量、干涉测量等光学系统中,由待测曲面光学元件表面反射的成像光因发生镜面反射而偏离成像系统光轴,导致成像失真。要从根本上解决这一测量难题,需先在光学成像原理上有所突破。本论文针对这一问题,以曲面光学元件表面的三维显微成像需求为背景,开展基于中介层散射的两步移相宽场三维显微成像技术研究,旨在为曲面光学元件表面的快速、宽场三维成像提供技术和理论支持。本论文的主要研究内容如下:(1)为揭示曲面光学元件表面无法被传统光学系统有效成像的根本原因,建立了宽场结构光照明三维显微成像系统对曲面光学元件样品成像时的有效光瞳模型,推导了其对应的光学传递函数表达式。研究了在各种表面局部倾角和物镜数值孔径条件下的截止频率的数学表达式,
(本文共124页)
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- 微计算机信息
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