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激光干涉光刻技术

干涉光刻技术集激光、干涉和衍射光学及光学光刻于一体,是国家自然科学基金资助的微细加工技术和微电子领域的前沿研究课题,对其进行理论、模拟和实验研究,对推进光学光刻极限,发展我国纳米微电子和光电子器件、新型大屏幕平板显示器和新型光刻机具有重要的科学意义和广阔的应用前景。本论文基于光的干涉和衍射及光学全息照相理论,综合评述了光学光刻的基本原理、主要类型、发展趋势及开展激光无掩模干涉光刻和全息光刻研究的目的和意义。深入研究了无掩模激光干涉光刻技术用于高分辨、大视场、深亚微米和纳米图形生成的基本原理、理论、主要类型和实现方法。建立了多光束、多曝光技术,包括双光束单曝光、双光束双曝光、三光束单曝光、三光束双曝光、四光束和五光束干涉的数学物理模型,编制了模拟软件并进行了大量的计算模拟研究,得到很多有用的结果。建立了无掩模多光束多曝光干涉光刻实验系统,提出了一种采用梯形棱镜进行波前分割和利用可选择光阑进行多种多光束多曝光干涉光刻研究的实验系统,  (本文共137页) 本文目录 | 阅读全文>>

《电子技术与软件工程》2013年21期
电子技术与软件工程

激光干涉光刻技术的分析

在微细加工和集成电路(IC)制造当中,光学光刻技术是毋庸置疑的主流技术。现在的IC集成度越来越高,这就对光刻分辨力有了更好的要求。但光刻物镜数值孔径(N A)和曝光波长(λ)在一定程度上限制光学光刻的分辨...  (本文共1页) 阅读全文>>

《现代制造工程》2012年06期
现代制造工程

激光干涉光刻技术应用概述

激光干涉光刻作为一种新兴的光刻技术,具有设备结构简单、价格低廉、高效率、高分辨率和大视...  (本文共5页) 阅读全文>>

哈尔滨工业大学
哈尔滨工业大学

高效大功率LED外延片用蓝宝石图形衬底的制备及其评价

白光照明用GaN基高效率大功率LED,近年来引起了人们研究的广泛关注,是未来LED产业的发展趋势。蓝宝石图形衬底,可有效降低其上GaN外延薄膜的穿透位错密度,同时提升GaN基LED的光提取效率。为了克服当前湿法和干法刻蚀制备图形化蓝宝石衬底面临的诸多问题,本文首先采用电子束光刻技术制备图形化Al薄膜,接着进行固相反应,进而制备蓝宝石纳米图形衬底。在此基础上,本文同时采用激光干涉光刻技术制备图形化金属Al薄膜,然后进行固相反应,以实现了蓝宝石纳米图形衬底的低成本、高效率、大面积制备。最后,针对激光干涉光刻制备的蓝宝石纳米图形衬底,生长GaN基LED外延片;通过对有无图形衬底上制备的GaN基LED外延片质量分析,对高效大功率LED外延片用蓝宝石图形衬底进行评价。直流磁控溅射法制备出蓝宝石图形化用金属Al薄膜的试验表明,蓝宝石衬底上沉积的Al薄膜表面粗糙度,随着溅射功率、工作气压、衬底温度的增加而增加。当直流溅射功率为60W,工作气压...  (本文共126页) 本文目录 | 阅读全文>>

吉林大学
吉林大学

基于多光束相干的激光干涉光刻技术研究

本论文首先在无掩模激光干涉光刻的理论基础之上,编写了模拟程序,对无掩模干涉光刻技术开展了计算机模拟研究,并得到了双光束、三光束、四光束干涉光的光强立体图以及二维等高线图。在计算机模拟的基础之上,我们设计并搭建了双光束、三光束及四光束干涉的光路图,分别用正、负光刻胶开展了实验研究并对实验结果进行了分析。在经过曝光、显影后,用光学显微镜和扫描电镜记录了干涉图像:经过双光束、三光束、四光束干涉曝光后,我们分别得到了一维光栅结构;三角点阵结构以及四方点阵结构。并且我们得到的结构与我们之前做的计算机模拟结果完全是吻合的。最后,我们利用搭建的三套干涉光路,使干涉光束作用于银、铝金属膜,初步探讨纳秒激光干涉光束制备金属过滤膜的可行性。从我们的实验结果中发现,我们制备的银、铝金属过滤膜孔径不均匀,且孔周围也不平滑。这主要是因为快速电子冷却和能量传输到晶格的时间尺度为皮秒量级,而纳秒级激光加工仍属传统热加工范畴造成的。  (本文共77页) 本文目录 | 阅读全文>>

《应用激光》2005年05期
应用激光

采用梯形棱镜波前分割的激光干涉光刻技术

光学光刻技术在微细加工和集成电路(IC)制造中一直是主流技术。随着IC集成度的提高,要求越来越高的光刻分辨力,但光学光刻的分辨极限受光刻物镜数值孔径(NA)和曝光波长(λ)的限制。激光干涉光刻技术具有高分辨、大视场、无畸变、长焦深等特点,...  (本文共3页) 阅读全文>>