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纠正套刻畸变

介绍了调整扫描投影式光刻机畸变的几种方法。畸变是扫描投影式光刻机  (本文共3页) 阅读全文>>

《词刊》2017年03期
词刊

中华剪纸

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权威出处: 《词刊》2017年03期
上海交通大学
上海交通大学

先进节点工艺的新型套刻误差测量系统

随着集成电路尺寸的缩小,先进节点制造工艺套刻精度的标准也更严苛。如何提高套刻的精度变得更具挑战性。不精确的测量结果会扰乱套刻误差管控系统,直接扰乱工艺稳定性,甚至引发良率问题。为了解决此难题,本论文为先进节点制造工艺开发了新型套刻误差测量系统。成果实施于量产产品,降低了返工作业率近三成,并且提高了良率接近1%。本论文主要工作内容如下:1、分析了套刻误差测量不准确的根本原因及机理,提出了具体工艺层次套刻误差测量方案的优化项目。化学机械抛光和刻蚀等工艺会导致测量标识形貌不对称。由于工艺轻微的波动不可避免,所以这种形貌变化不可控。通过测量标识的碎片化处理和冗余图形饱和处理等优化方法,标识在制造工艺过程中的稳定性得到了显著地提高。2、成功地评估和实施了基于衍射型套刻误差测量。基于衍射型套刻误差测量利用散射仪来获取正负一阶衍射光并且用光强来推算套刻误差。由于敏感度高,必须根据具体制造工艺条件来设计测量标识和程式。3、基于为控制而设计的概念...  (本文共88页) 本文目录 | 阅读全文>>

复旦大学
复旦大学

深亚微米光刻工艺中套刻优化方法的应用研究

光刻工艺作为半导体制造技术的核心工艺,是整个IC制造技术向前发展的驱动力。随着IC产业进入22nm时代,不断缩小的工艺尺寸对光刻套刻性能提出了非常高的要求。对于一些产品的关键工艺层,2-3nnm的套刻偏差,将导致芯片性能直接下降甚至失效。因此,优化光刻套刻性能,是研究光刻工艺的重要课题之一。本文从套刻工艺的原理及应用入手,结合实际的工艺测试数据,阐明了套刻工艺对产品良率的影响,同时也体现了套刻优化需求的迫切性。然后,通过鱼骨分析的方法,逐一分析了影响光刻套刻的各种因素,获得了提升套刻精度和稳定性的两个主要方法,即控制设备套刻稳定性以及改善套刻补偿的方式。最后,论文分别对套刻标准栅格图法及套刻基准控制法,进行了实践应用评估。两种优化方法在应用实践中,均体现了较好的优化效果,套刻性能优化均超过10%。通过对深亚微米光刻工艺的探索研究,找到了光刻套刻性能的优化方法,并在实践运用中,取得了预想的成果,为光刻工艺未来的发展提供了经验积累。  (本文共54页) 本文目录 | 阅读全文>>

《光学学报》2006年07期
光学学报

基于套刻误差测试标记的彗差检测技术

为了满足光刻机投影物镜彗差测量精度的要求,提出一种基于套刻误差测试标记的彗差检测技术,分析了彗差对套刻误差测试标记空间像的影响,详细叙述了该技术的测量原理,并利用PROLITH光刻仿真软件对不同数值孔径...  (本文共6页) 阅读全文>>

《中国集成电路》2019年03期
中国集成电路

套刻成像技术中波长可调性的准确度优化

随着半导体制造技术的发展和集成电路元件尺寸的缩减,套刻预算也相应被削减。由于测量系统自身的光学瑕疵,以及光束与测量目标的几何不对称之间的相互作用,套刻预算已经接近测量误差的范围。测量误差对元件良率的影响显著,因而不能将其忽略。在本...  (本文共6页) 阅读全文>>