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低辐射镀膜玻璃的研究进展

本文介绍了开发低辐射镀膜玻璃的意义及国内外的  (本文共4页) 阅读全文>>

《科学中国人》2016年36期
科学中国人

低辐射镀膜玻璃研究开发进展

低辐射镀膜玻璃其独具的防止热辐射和良好的可见光透过率,使在各领域中备受关注本文...  (本文共1页) 阅读全文>>

浙江大学
浙江大学

新型低辐射薄膜TiN的APCVD法制备及性能研究

氮化钛(TiN)是近年来所研究的新型宽带半导体材料中一种性能优异,极具发展潜力和拥有广泛应用前景的硬质合成材料。它具有优异的热稳定性、耐腐蚀性、高机械硬度、宽的光学带隙、低的电阻率和在可见光区及红外光区有优良的光学性能。令人感兴趣的是TiN的低的电阻率和在可见光区及近红外区的优良的光学性能的特点。另一方面,低辐射膜在节能方面有重要意义。本研究在对低辐射膜和TiN薄膜的光、电性能做了全面的文献综述的基础上,提出了用氮化钛薄膜作为低辐射膜应用的设想。希望利用氮化钛薄膜的良好的导电性、其光性能与金、银等贵金属薄膜的很相似:膜较薄时,在可见光区半透明及红外光区的高反射的特点。得到一种新型的节能低辐射镀膜玻璃。同时本论文还全面介绍了节能镀膜玻璃,特别是低辐射镀膜玻璃的发展概况、节能特性、原理、低辐射膜的种类以及常用的制备方法等。本文以无机物TiCl4和NH3为先驱体,以惰性气体N2为载气在玻璃基板上采用常压热分解化学气相沉积法制备得到了T...  (本文共80页) 本文目录 | 阅读全文>>

浙江大学
浙江大学

CVD法Sb掺杂SnO_2薄膜的制备、性能及应用研究

本论文全面介绍了节能镀膜玻璃,特别是低辐射镀膜玻璃的发展概况、节能特性、原理、低辐射膜的种类以及常用的制备方法等,并总结得出高掺杂宽禁带半导体材料如SnO2等以其优良的光电性能、低廉的原料价格和方便的制备工艺,能够成为经济性节能镀膜玻璃的主要膜层原料。常压化学气相沉积法以其设备简单、成本低、易实现大面积镀膜等优点成为一种很有应用潜力的制备SnO2薄膜的方法,在镀膜玻璃的工业化生产中有广阔的应用前景。经过大量的文献查阅和前期研究工作基础上,本文提出以金属有机物C4H9SnCl3(单丁基三氯化锡,MBTC)和SbCl3为先驱体,采用常压热分解化学气相沉积法制备Sb掺杂SnO2透明导电薄膜,运用XRD、SEM、TEM、XPS、四探针电阻仪、紫外可见光谱仪等手段对制备的薄膜样品进行了测试和分析。其典型样品的薄膜厚度为228nm、方块电阻为46 Ω/□,可见光区平均透射率和反射率分别为65%和12%,红外反射率为48%(3000nm处)。...  (本文共91页) 本文目录 | 阅读全文>>

《玻璃》2014年11期
玻璃

离线低辐射镀膜玻璃

对离线低辐射镀膜玻璃的发展进行了介绍,指出单银、双银和三银离线低辐射镀膜...  (本文共5页) 阅读全文>>

权威出处: 《玻璃》2014年11期
《中国建材》1999年12期
中国建材

低辐射镀膜玻璃

低辐射镀膜玻璃是90年代国际上刚刚发展起来的新型节能保温玻璃。由于普通玻璃的高辐射率和对可见光与红外线...  (本文共1页) 阅读全文>>

沈阳建筑大学
沈阳建筑大学

低辐射镀膜玻璃的磁控溅射制备及表征

近几年随着绿色节能建筑的兴起,低辐射镀膜玻璃(Low-e玻璃)又一次得到广泛重视,无论是“十二五规划”还是“十三五规划”,都依晰看到了它的发展前景。对建筑的围护结构进行节能改造以及加强新型建筑材料的开发势在必行,低辐射镀膜玻璃也因此得到青睐,开发出光学性能、热工性能、机械性能和化学稳定性良好的低辐射镀膜玻璃并将其应用于建筑行业进行节能显得尤为重要。本文的研究目的之一是在普通钠钙玻璃基底上采用直流磁控反应溅射技术制备内层介质层(Ti,Al)N薄膜,直流磁控共溅射技术制备功能层掺铜银膜,直流磁控反应溅射技术制备外层介质层(Ti,Al)N薄膜从而构成Low-e玻璃。通过单因素变量分析得到适宜低辐射膜系生长的溅射参数,并采取SEM、XRD、紫外-可见分光光度计、傅立叶-红外光谱仪、导热系数仪和接触角等分别对薄膜的形貌、物相、可见光透过率、远红外反射率、热率和疏水性能进行测试。结果表明本实验条件下可得到表面均匀平整、可见光透过率为74.4...  (本文共80页) 本文目录 | 阅读全文>>