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测试图形速度 V购买电脑时,售货员不见得让你加载程序以测试图形性能。其实这种测试很简单,对大部分预装MicrosoftW  (本文共8页) 阅读全文>>

《个人电脑》1996年11期
个人电脑

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用PKZIP将一个大文件分储到几个磁盘上 PKZIP2.0有一个称作磁盘跨越的特性,允许将一个.ZIP档案文件储存到多个...  (本文共7页) 阅读全文>>

《个人电脑》1994年02期
个人电脑

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提高显示性能 ?我有一个486DX2/66系统,配有Cirrus Logic 的CL-GD5426图形芯片,主...  (本文共8页) 阅读全文>>

《个人电脑》1997年02期
个人电脑

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清除多级临时目录 尽管PC机已进入基于GUI的时代,但为...  (本文共4页) 阅读全文>>

《个人电脑》1995年12期
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再谈打印机并行电缆的长度 ?贵刊曾谈过对于“打印机并行连接,推荐极限电缆长度为10英尺”,我怀疑您是否真正地测试过这...  (本文共4页) 阅读全文>>

上海交通大学
上海交通大学

基于光学临近修正的测试图形生成方法研究

当今半导体技术经历飞速的发展已进入到纳米级工艺时代。集成电路制造在低k1值的光刻工艺条件下,特别是对于65纳米以下的技术节点,尽管已使用最先进的浸没式光刻机台来曝光,也面临着解析度到达极限的困境。当面对愈加复杂的二维版图设计时,光阻桥接和图形变细等光刻工艺敏感缺陷已愈发严重。但不断发展的分辨率增强技术与可制造性设计逐渐被委以重用并大放光彩,使集成电路制造成功地向16乃至10纳米工艺迈进。光学临近修正技术是分辨率增强技术中最为常用也是最主要的技术手段。基于模型的OPC技术以其较高的修正精度和成熟的技术为芯片代工厂所青睐。该技术首先是利用在相同工艺条件下的测试图形,于实际硅片上量测的关键尺寸的集合来构建OPC模型,再以OPC模型为基础结合各种修正算法对客户数据版图进行处理。随着设计版图越来越复杂,对OPC模型修正精度的要求也越来越高。本文旨在介绍一种能够实现精度可靠的一维和二维OPC测试图形的生成方法。对于一维OPC测试图形生成,首...  (本文共65页) 本文目录 | 阅读全文>>

《西安交通大学学报》2005年08期
西安交通大学学报

生成确定性测试图形的内建自测试方法

为了以低的硬件开销自动生成高效率的确定型测试图形,提出一种新型的内建自测试(BIST)方法.先对原型设计用自动测试图形工具生成长度短、故障覆盖率高的确定性测试图形,然后对生成的图形排序以取得低功耗测试序列,再选择状态机优...  (本文共5页) 阅读全文>>