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煤基碳质反应剂与活性炭的制备和性能

利用先锋褐煤为原料制备碳质反应剂,采用湿法工艺脱硫除铁,解决了木炭来源对生态所造成的破坏。控制一定的酸度、浓度和液固比,利用水蒸汽活化法制备标准的活性炭。在  (本文共3页) 阅读全文>>

昆明理工大学
昆明理工大学

煤基碳质反应剂与活性炭的制备和性能研究

本研究利用先锋褐煤为原料制备出了一种新型的碳质反应剂作为Cu火精炼木炭还原剂的替代品,解决了木炭来源对生态所造成的破坏。同时用焦作煤为原料,利用水蒸汽活化法制备出了比表面积达到1123m~2/g,碘吸附值达到1041.3mg/g的活性炭。采用湿法工艺用H_2O_2和HNO_3混合脱硫除铁,在控制一定的酸度、浓度和液固比的条件下,经脱硫除铁后的产品的硫含量低于0.10%,铁含量低于0.05%,灰分含量低于0.7%,在杂质上已满足木炭对低硫、低铁、低灰分的要求。在使用了特制的添加剂后,各种添加剂的成分之间还有一定的协同作用,而这种协同作用在本替代品中是对产品质量有益的。添加剂采用α_2β_3γ_3配比可以保证阳极铜主金属品位和杂质成分符合产品质量的要求,使得铜阳极板化学成分Cu≥99.5%,杂质总量≤0.5%,同时得到的铜阳极板表面平整光洁,内部结构致密。利用焦作煤通过水蒸汽活化法制备活性炭时,随着活化温度的升高,活化时间的延长,所...  (本文共166页) 本文目录 | 阅读全文>>

上海交通大学
上海交通大学

湿法工艺中缺陷问题的研究

在半导体制造流程中,湿法清洗是作为承担污染物清洗并确保产品良率稳定极其重要的工艺站点,研究湿法工艺中所遇到的缺陷问题是非常有意义的课题。本文将主要介绍湿法清洗的概念与原理,总结归纳湿法工艺中常见的缺陷类型与产生机理,并重点以光刻胶残留,栅氧成膜厚度异常与Scrubber V型缺陷三种疑难缺陷为实例进行深入分析与研究。对于钴硅化物预清洗站点的光刻胶残留缺陷,通过分析该缺陷的分布图形与类型,结合该工艺程式与硅片浸润性等理论依据并通过实验验证了缺陷来源为HF药液槽,最后通过增加SC1清洗解决了光刻胶残留问题,将产品良率提高了1%左右。对于栅氧成膜厚度异常,通过结合膜厚异常区域与进入机台相对应位置关系,并分析机械臂的作业模式局限性与实验验证确定了缺陷成因为硅片被机械臂搬送震动时掉落的含硫结晶物污染,最后通过改善机台硬件参数与将硫酸槽浸泡时间延长到180秒来解决成膜异常。对于Scrubber V型缺陷,通过分析机台结构原理与各种清洗功能的...  (本文共65页) 本文目录 | 阅读全文>>

《稀有金属与硬质合金》1981年02期
稀有金属与硬质合金

湿法工艺处理钨钼复合原料的各种萃取方法

近年来,用于制取金属粉末的纯三氧化钨越来越多地用成分复杂的原料生产,生产中使用的既有贫矿也有二...  (本文共8页) 阅读全文>>

《化工新型材料》1987年03期
化工新型材料

美国电子工业用湿法工艺化学品

半导体工业在圆片生产的整个过程中,因清洗、蚀刻和图象显影,需要使用大量液态化学品,其中包括酸、碱、盐、过氧化物和有机溶剂(见表1)。半导体工业湿法工艺用化学品大多要求高纯度。...  (本文共5页) 阅读全文>>

《河南化工》2000年07期
河南化工

以玉米为原料湿法工艺生产酒精

介绍了以玉米为原料用湿法工艺生产酒精的过程、各个工段的生产工艺指标及质量控制指标。本工艺利用国产设...  (本文共3页) 阅读全文>>

《林业科技通讯》1950年50期
林业科技通讯

使湿法工艺废水治理产生经济效益

使湿法工艺废水治理产生经济效益郑睿贤湿法工艺生产纤维板,排放大量工艺废水,污染环境,如加入酚醛树脂,污...  (本文共3页) 阅读全文>>