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HFCVD系统中衬底接触热阻的研究

建立了热丝CVD大面积金刚石膜沉积的衬底温度场模型,对影响衬底温度场的接触热阻及其他相关沉积参数进行了模拟计算。根据实验结果,对接触热阻的计算公式  (本文共6页) 阅读全文>>

南京航空航天大学
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HFCVD系统温度场和流场的仿真研究

在热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapor Deposition,简称HFCVD)金刚石膜的系统中,系统温度场和流场的分布直接决定着金刚石膜的形核密度和生长速率。本文对影响系统温度场和流场的相关工艺参数进行了系统的模拟计算,确定了生长大面积优质金刚石膜的工艺参数优化值,主要工作如下:1.选取氢气作为HFCVD系统中流场的主要研究对象,经计算该流场的雷诺数Re=979.3,马赫数Ma=0.05,最终确定流场的流态为层流、不可压缩流体的低速流动,为热-流耦合分析奠定了理论基础。2.采用K型热电偶对Φ80mm的平面衬底沿径向距中心不同距离处的温度进行了多点测量,得到了衬底表面温度分布曲线。在ANSYS中建立热丝和Φ80mm平面衬底的三维有限元模型,对多种沉积参数影响下的衬底温度规律进行了详细地仿真计算。结果表明,考虑衬底三维热传导以及热丝温度的不均匀分布条件下衬底温度场与纯热辐射相比更加接近实验结果。3...  (本文共78页) 本文目录 | 阅读全文>>

南京航空航天大学
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纳米金刚石薄膜的制备机理及其机械性能研究

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石膜是集优异的力学、电学、热学、声学和化学性能于一体的材料,在高科技领域有着广泛的应用前景。为了探索纳米晶对CVD金刚石薄膜机械性能的影响,本文对热丝CVD(Hot Filament CVD, HFCVD)法纳米金刚石薄膜的设备、工艺及机理等开展深入系统的研究,并对所制备的纳米金刚石薄膜的微结构和机械性能进行分析与评价,为CVD纳米金刚石薄膜的应用奠定基础。本文完成的主要工作和取得的成果如下:①系统分析了微米晶粒的金刚石薄膜存在的缺陷和面临的不足以及纳米金刚石薄膜的优势与应用前景,研究了纳米金刚石薄膜的表征技术、沉积工艺与机理研究的发展。②对双偏压HFCVD纳米金刚石薄膜制备系统开展了系统的研究,分析了HFCVD系统基本热交换过程,建立了气相和衬底温度场的三维有限元模型,综合分析了多种因素对衬底气相温度场的影响;设计了衬底多点无电刷测温装置和多试样连续...  (本文共153页) 本文目录 | 阅读全文>>

南京航空航天大学
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陶瓷轴承NCD涂层的制备研究

NCD(nano-crystalline diamond)膜有很强的抗腐蚀特性,卓越的力学和摩擦学性能,是一种前景广阔的轴承涂层材料。热丝CVD(HFCVD)是制备NCD膜的常用方法。本文借助有限元分析工具对HFCVD系统中的衬底温度场、气相空间场的分布进行了详细、系统的模拟计算,优化了轴承内外圈NCD涂层制备的工艺参数,并开展了轴承内外圈NCD涂层的制备工艺研究。本文所完成的主要研究工作以及所取得的主要成果如下:1.应用传热学、热流体学理论及实验验证的方法,探讨了HFCVD系统的传热传质过程。分别讨论了H2和Ar占主导成分的气氛中气体化学反应、热传导、对流等因素对衬底温度的影响。2.开展了HFCVD系统中轴承内外圈衬底温度场的有限元仿真研究,综合分析了热丝数目、温度、热丝到衬底距离等因素对衬底温度的影响。在数值仿真的基础上,优化系统参数,得到适合在轴承内外圈上制备NCD涂层的均匀衬底温度场。3.开展了HFCVD系统中轴承内外圈...  (本文共79页) 本文目录 | 阅读全文>>

《半导体信息》2008年01期
半导体信息

降低InP衬底成本的新工艺

据《Compound Semiconductor》2007年第11/12期报道,Aonex Technolo-gies、加州理工学院...  (本文共1页) 阅读全文>>

《幼儿教育》1991年09期
幼儿教育

什物插的制作

这里向你介绍一种简单的什物插。这种什物插可代替什物柜的功能,幼儿每天带来的一...  (本文共1页) 阅读全文>>

《激光与红外》2007年08期
激光与红外

硫化锌衬底上氧化铪保护膜制备及性能研究

采用磁控溅射法在硫化锌衬底上制备了氧化铪薄膜,并对氧化铪薄膜的结构和性能进行了分析和测试。结果表明,制备...  (本文共3页) 阅读全文>>