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真空沉积双层黑铬选择性涂层

本文介绍了用于全玻璃真空管太阳能集热器的真空沉积双层黑铬选择性涂层的工艺和性能。其α_s为89%—91%,ε_n为5%—7%(80℃)。该涂层经300℃—400℃、1小时的烘烤后,α_s和ε_n基本没有变化。 应用激光干涉法,在λ=6328(?)波长下对每层黑铬涂层的光学常  (本文共8页) 阅读全文>>

《防腐与包装》1986年03期
防腐与包装

真空沉积耐磨和防腐镀层

前言真空沉积镀层能有效地防止机械零部件的磨损,烧蚀,腐蚀和氧化。由于真空沉积的镀层是一个原子一个原子地生...  (本文共4页) 阅读全文>>

《防腐与包装》1986年03期
防腐与包装

真空沉积耐磨和防腐镀层

前言真空沉积镀层能有效地防止机械零部件的磨损,烧蚀,腐蚀和氧化。由于真空沉积的镀层是一个原子一个原子地生长的,所以可以把真空沉积技术看作是原子过程。详细的组织特性最为重要;为了确定整个界面区的...  (本文共4页) 阅读全文>>

《原子能科学技术》1979年01期
原子能科学技术

自撑金属钒薄靶的真空沉积技术

钒是一种光亮的银白色金属。由于它的熔点高达1697℃,蒸发点为1880℃,要...  (本文共1页) 阅读全文>>

《科学通报》2008年16期
科学通报

外围全氟取代的1,3,5-三苯乙烯基苯:真空沉积膜的表面形貌与疏水性能

报道了全反式-1,3,5-三(2′,3′,4′,5′,6′-五氟苯乙烯基)-苯(TPFSB)的合成及其真空沉积膜的性能.原子力显微镜(AFM)观测发现,真空沉积在石英衬底上的TPFSB薄膜的表面形貌依赖于薄膜厚度,...  (本文共6页) 阅读全文>>

《半导体光电》1986年02期
半导体光电

InSb IR-CCD中Cr-Au膜的制备

一、前言薄膜及表面层的真空沉积可用物理汽相沉积(PVD)、化学汽相沉积(CVD)或表面反应及这些基本原理的组合应用来实现。为了获得有关膜生长的基本过程和原...  (本文共4页) 阅读全文>>