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离子束曝光技术

论述了离子束曝光技术的原理、特点,分析了其面临的关键技术问题,如掩模技术、离  (本文共7页) 阅读全文>>

《电工电能新技术》1985年02期
电工电能新技术

离子束投影曝光技术

前言随着科学技术和国民经济的发展,离子束技术已在各个领域获得越来越广泛的应用,离子束曝光就是其中...  (本文共6页) 阅读全文>>

《微细加工技术》1986年01期
微细加工技术

自显影抗蚀剂的离子束曝光技术

本文是介绍一种用自显影抗蚀剂的离子束曝光技术。硝化纤维素受到离子束照射后能够进行自显影,不需要用显影剂进行显影就能够获得高分辨率的曝光图形。介绍了离子束1:1接近式印刷曝光机...  (本文共5页) 阅读全文>>

《电子工业专用设备》2005年12期
电子工业专用设备

聚焦离子束曝光技术

聚焦离子束技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程 于一身的新型微纳加工...  (本文共3页) 阅读全文>>

《微细加工技术》1990年04期
微细加工技术

休斯公司利用聚焦离子束技术曝光出宽1200nm的线条图形

最近,美国Malibu,Calif.休斯研究所的一组科技人员在GaAs圆片上的PMMA抗蚀剂涂层上成功地制造出清晰明瞭的宽120(?)...  (本文共1页) 阅读全文>>

《微细加工技术》1950年30期
微细加工技术

VLSI曝光技术的现状与未来

本文简要介绍了用于超大规模集成电路微细加工的各种曝光技术,包括光学方法,...  (本文共7页) 阅读全文>>