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定向沉积技术制备NdFeB/X/Ti薄膜及磁性能的研究

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·江苏大学

本文主要研究了定向沉积技术制备NdFeB/X/Ti薄膜的制备工艺、表面形态,以及磁性能。为获得良好磁性能的NdFeB/X/Ti薄膜,采用了定向沉积技术,使薄膜表面形成定向的柱状晶,并分析了其中的机理。文中采用了直流、射频磁控技术制备了NdFeB/X/Ti薄膜,利用原子力显微镜、X射线衍射仪、振动样品磁强仪、电子扫描显微镜等对薄膜的性能进行测试。结果表明:由于定向沉积技术在溅射过程中对薄膜用适当方式加热,使溅射中的薄膜温度从400℃升到500℃,所制备的NdFeB/Ti薄膜是晶态的;定向沉积技术制备出的NdFeB/Ti薄膜表面形成单一方向的柱状晶,该柱状晶生长方向垂直于薄膜表面:定向的柱状晶NdFeB/Ti薄膜具有良好的磁各向异性。合适的定向沉积工艺制备的NdFeB/Ti薄膜经过不同温度热处理后,又利用原子力显微镜、X射线衍射仪、振动样品磁强仪等对薄膜的性能进行测试。结果表明:定向沉积技术制备的NdFeB/Ti薄膜的表面形态随热处  (本文共70页) 本文目录 | 阅读全文>>