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太阳电池用(Si/Ge)_X/ZnO薄膜的设计、生长及其光性能调制

本文在全面总结目前太阳电池材料的研究现状和其未来发展趋势的基础上,系统地从理论和实验两方面对应用在太阳电池板上的Si基薄膜材料的结构进行了设计,用超高真空磁控溅射仪研究了其制备工艺,用了XRD、SEM、AFM、TEM、Raman、FTIR、UV-Vis、PL和椭圆偏光仪(SE)等分析手段研究了薄膜的相结构、微观组织特征和其所具有的光性能。首先,探讨了溅射气压(Pg),溅射功率(Pin),衬底温度(T)和溅射时间(t)对Si单层膜的厚度、微观组织结构和光性能的影响规律,确定出了薄膜表面状况和光性能优的磁控溅射的制备工艺,在实验所研究的范围内,沉积Si薄膜的最佳工艺参数为:Pg=1.0Pa;T=300~400℃;Pin=90~100W。以此工艺为基础,分别沉积出实验中根据能带理论和光吸收原理设计的(a)Quartz/Ge/Si; (b)Quartz/(Ge/Si)3; (c)Quartz/ZnO/Ge/Si; (d)Quartz/Z  (本文共94页) 本文目录 | 阅读全文>>

《光散射学报》2004年03期
光散射学报

小尺寸Si/Ge量子点内应变和组分的拉曼光谱表征

本文详细地研究了原始生长和退火处理后的Si/Ge量子点的拉曼光谱。我们观测到了Si/Ge量子点的一系列本征的拉曼振动模以及Ge-Ge模的LO和TO声子峰间4.2cm-1的频率劈裂。...  (本文共5页) 阅读全文>>

《半导体学报》2002年07期
半导体学报

量子点的形成对Si/Ge界面互扩散的影响

在Si(10 0 )衬底上低温生长了一层完全应变的Ge层 ,高温退火形成量子点 .我们用喇曼光谱研究了量子...  (本文共4页) 阅读全文>>

《红外与毫米波学报》2003年01期
红外与毫米波学报

溅射气压对Si/Ge多层膜结构光学常数的影响

采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪 ,测量了用磁控溅射法制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数 ,测量能量范围为 1.5~ 4.5eV .分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数...  (本文共3页) 阅读全文>>

《人工晶体学报》2005年02期
人工晶体学报

离子束溅射制备Si/Ge多层膜的结晶研究

采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层...  (本文共4页) 阅读全文>>

《人工晶体学报》2006年02期
人工晶体学报

离子束溅射制备Si/Ge多层膜及红外吸收性能研究

采用离子束溅射方法在S i衬底上制备S i/Ge多层膜。通过改变生长温度、溅射速率等因素得到一系列S i/Ge多层膜样品。通过X射线衍射、...  (本文共5页) 阅读全文>>