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在广泛应用于溅射深度剖析定量分析的MRI模型基础上,首先引入了一个考虑择优溅射效应的参量。再假设原子混合长度和粗糙度同溅射深度相关,就可实现对近表层深度剖析中存在的原子间混合长度和粗糙化的非稳态效应的定量表征。在此基础上,对利用三种不同深度...[详细]

《2012年广东省真空学会学术年会论文集》 2012-12-01 下载次数(23) | 被引次数(0)

择优溅射是深度剖析实验中导致所测量元素的成分分布偏离实际的成分分布的一个重要因素。本文首先在广泛应用于溅射深度剖析定量分析的MRI模型基础上,引入了一个描述择优溅射效应的参数,...[详细]

《中国真空学会2012学术年会论文摘要集》 2012-09-21 下载次数(32) | 被引次数(0)

在广泛应用于溅射深度剖析定量分析的MRI模型基础上,首先引入了一个新的参数用以考虑因择优溅射而引起的失真效应,并定量分析了有着明显择优溅射的Ta(7.5nm)/Si(10.5nm)多层膜的深度剖析谱。在此基础上,对利用三种不同深度剖析技术(AES,XPS和SIMS),得到的同一S...[详细]

《中国真空学会2012学术年会论文摘要集》 2012-09-21 下载次数(90) | 被引次数(0)

不同组成和厚度的涂层材料能够满足使用均质材料不能满足的关键需求,因而受到了越来越多的关注,因此需要发展一种快速准确的深度剖析技术以对涂层材料的元素组成和分布情况进行表征。文章主要介绍了激光剥蚀电感耦合等离子体质谱(Laser ablation inductively...[详细]

《冶金分析》2021年12期 下载次数(68) | 被引次数(0)

溅射深度剖析是将离子溅射与表面元素成分表征结合在一起的一种测量技术,其目的是获得薄膜材料中元素成分的深度分布。这一技术在当今纳米薄膜材...[详细]

《TFC'11全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集》 2011-08-25 下载次数(1) | 被引次数(0)

出版社:电子工业出版社出版时间:2013-1SBN:9787121191640内容简介:本书是为数据恢复...[详细]

《计算机安全》2013年01期 下载次数(78) | 被引次数(1)

AES XPS结合离子刻蚀得到的深度剖析曲线在薄膜分析中十分有用。但由于AES XPS信号来自表面 3~ 5个电子平均自由程内所有原...[详细]

《真空科学与技术》2001年04期 下载次数(228) | 被引次数(1)

本工作利用一台不作任何较大改动的CAMECA-IMS-3f扇形磁铁型二次离子质谱仪对传统的离子散射谱(ISS)分析技术进行了适当的变通,并对二次离子质谱分析(SIMS)的深度剖析谱进行了浓度定标。...[详细]

《质谱学报》1960年30期 下载次数(78) | 被引次数(0)

钕铁硼永磁材料因其优异的永磁性能已成为现代工业不可或缺的功能材料。材料因电化学与氧化作用易被腐蚀,常施加镀层来保护磁体;出于对材料的各项磁指标、耐蚀性及成本考虑,常添加不同种类及含量的元素来提高材料的性价比。对其镀层与元素进行快速而准确地检测,对于材料的研发、生产与质量控制都有重...[详细]

北京有色金属研究总院 硕士论文 2015年 下载次数(291) | 被引次数(1)

表面科学及其应用只有二十年左右的历史,如今它已成为当代科学八大生长点之一。电子能谱深度剖析技术在表面科学及其...[详细]

《分析化学》1987年07期 下载次数(89) | 被引次数(2)