溅射     

sputter; sputtering... [详细]

《英汉汉英灾害科学词典》 字数(21)

以涂层材料为靶阴极,利用氩离子轰击靶材产生阴极溅射,将靶材原子溅射到工件上形成沉积层的制膜方法。用环形磁体使靶上产生环状磁场,靶接负电压为阴极,真空室接地为阳极,基片放在靶的轴线或侧面。当真空室内充入低压,氩气 (10-2~10-1Pa)... [详细]

《现代材料科学与工程辞典》 字数(316)

用高频电源放电产生的离子轰击靶材形成溅射的镀膜工艺。它由真空系统和射频电源系统组成。真空室接地为阳极,靶材为阴极。将超过50kHz的高频电场加在阴、阳极上,使气体中的电子随交变电场高速振荡,并电离成等离子体。当靶面电位处于正半周... [详细]

《现代材料科学与工程辞典》 字数(321)

陰極濺散 cathode sputtering... [详细]

《海峡两岸科技术语对照词典》 字数(27)

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《英汉汉英电力词典》 字数(22)

一种利用溅射原理及技术处理加工材料表面的现代技术方法。溅射,也称阴极溅射,其基本原理是:在直流或射频高压电场的作用下利用形成的离子流轰击阴极靶材料表面,使离子的动能和动量转移给固体表面的原子,因化学键断裂而飞出(或称飞溅)。通... [详细]

《科学技术方法大辞典》 字数(462)

sputtering temperature... [详细]

《汉英核工程词典》 字数(26)

在高度真空环境中,从独立离子源中引出高能离子束轰击靶面形成溅射的镀膜工艺。主要由离子源、真空系统和电源系统组成。离子源分为电子轰击型和双等离子型两种。离子源中的阴极灯丝产生大量电子使气体离化,在磁场作用下引导聚束离子打击靶... [详细]

《现代材料科学与工程辞典》 字数(302)

1. 磁控溅射镀膜机用磁控溅射源取代蒸发镀膜机中的蒸发源的装置,通常称为磁控溅射镀膜机,磁控溅射镀膜机主要由真空室、排气系统、磁控溅射源系统和控制系统四部分组成,磁控溅射具有沉积速度快、镀件温升低的优点。2. 磁控溅射源(1) 选择... [详细]

《电镀工实用技术手册》 字数(893)

sputtering ion source... [详细]

《汉英核工程词典》 字数(26)