全部 学问词条 学问文献 薄膜生长 相关学问

关于氢稀释导致从非晶到微晶的转变,目前有三种模型给予解释:表面扩散模型、刻蚀模型和化学退火模型。1) 表面扩散模型图7.17为表面扩散模型示意图,这一模型认为氢原子从等离子体中流向薄膜生长表面,一方面饱和硅薄膜表面的硅悬挂键,另一方... [详细]

《太阳能光伏技术与应用》 字数(828)

硼薄膜可采用PCVD法按下述的条件制备:装置:平行板直流辉光放电PCVD装置。反应气体: B2H6(以氢为载体稀释到含B2H60.1%)基片:高阻单晶Si片或被覆α-Si: H膜的玻璃片基片温度: 200℃放电时间: 60min图7-14为硼膜的生长与放电电压的关系及不... [详细]

《等离子体科学技术及其在工业中的应用》 字数(674)

高性能的光学薄膜器件的制备需要有先进的薄膜制备技术、监控技术及检测技术作支撑。作为一种非常重要的薄膜生长监控技术,光学监控技术正从单波长监控方式向多波长和宽光谱监控方式发展。以提高薄膜生长监控精度及薄膜生长工艺为目标,本论文针对宽光谱监控技术进行了研究,同时也研究了生长速率、薄膜...[详细]

复旦大学 博士论文 2011年 下载次数(493) | 被引次数(3)

氧化锌(ZnO)是一种应用广泛的直接带隙、宽禁带半导体材料,以蓝宝石(α-Al_2O_3)为基片制得的ZnO薄膜在短波光电器件如发光二极管、激光器件等领域有重要的应用前景。虽然实验上采用激光分子束外延技术(PLD-MBE),在α-Al_2O_3(0001)上已制得了高质量的ZnO...[详细]

电子科技大学 博士论文 2004年 下载次数(968) | 被引次数(3)

脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition简称PLD)技术是当前最常用和最富有活力的薄膜制备方法之一。PLD技术制备薄膜的过程可划分为三个阶段:激光烧蚀、等离子体膨胀、薄膜沉积,整个过程包含许多复杂而有趣的物理现象,因此其机理的研究一直是人们关注的焦点。近年来,...[详细]

华中科技大学 博士论文 2006年 下载次数(814) | 被引次数(11)

薄膜材料的发展对微电子,微机械等高科技领域的发展有着重要影响,而薄膜的原子尺度的生长过程将影响薄膜材料的各种应用性能,因此关于薄膜生长过程的开展了大量从实验到理论的研究工作。随着计算机科学等新型科学技术的发展,计算机模拟可以从原子尺度模拟薄膜形成的动态过程,解释实验观察到各种现象...[详细]

重庆大学 硕士论文 2008年 下载次数(390) | 被引次数(2)

综述了蒙特卡罗方法模拟物理气相沉积薄膜生长的研究进展.特别对基底的表面形貌、结构缺...[详细]

《辽宁大学学报(自然科学版)》2007年02期 下载次数(828) | 被引次数(4)

纳米薄膜由于其具有独特的光学、电磁学以及催化等特性,在纳米光子学,电子工业和生物传感器,催化作用以及医学理疗等许多领域表现出了广泛的应用前景,因而对于纳米薄膜的研究成为近年来科学研究的热点之一。由于纳米薄膜的生长过程直接影响其微观结构、形貌进而决定薄膜的特殊性质,因此,了解纳米薄...[详细]

南昌航空大学 硕士论文 2014年 下载次数(342) | 被引次数(2)

薄膜科学在现代科技领域中有着广泛的应用,研究薄膜的生长过程对于发展新性能的新型材料及提高传统薄膜材料的质量和性能都有着重要的指导作用。基于计算机技术的薄膜生长的蒙特卡罗模拟可以动态通真地显示薄膜的生长过程,直观合理地解释实验观察的现象,为调整优化薄膜制备工艺条件、创建或补充理论提...[详细]

燕山大学 硕士论文 2009年 下载次数(628) | 被引次数(4)

近年来,纳米薄膜材料以其特有的物质形态和性能广泛的应用到了现代科技当中,因此对于薄膜材料的研究越来越引起人们的关注。通常情况下,薄膜材料是通过生长而获得的,生长过程中所涉及到的复杂原子过程以及这些过程之间的相互作用关系对于薄膜的微观结构和性能有着非常重要的影响,因此从原子尺度来研...[详细]

大连理工大学 硕士论文 2010年 下载次数(1008) | 被引次数(12)